[發明專利]少落塵的真空磁控濺射鍍膜設備無效
| 申請號： | 201110374715.X | 申請日： | 2011-11-23 |
| 公開（公告）號： | CN102409312A | 公開（公告）日： | 2012-04-11 |
| 發明（設計）人： | 林嘉宏 | 申請（專利權）人： | 林嘉宏 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215321 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 落塵 真空 磁控濺射 鍍膜 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種少落塵的真空磁控濺射鍍膜設備，設有濺射區，所述濺射區內設有磁控濺射陰極的靶材及組件，其特征在于：
所述磁控濺射陰極的遮蔽板上設有不銹鋼網。
2.根據權利要求1所述的一種真空磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：
?所述不銹鋼網為12目的不銹鋼網。
3.根據權利要求2所述的一種真空磁控濺射鍍膜設備，其特征在于：
所述不銹鋼網的材質為304不銹鋼。
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