[發明專利]人臉過曝的影像處理方法及其影像擷取裝置

無效

• 申請號: 201110347796.4
• 申請日: 2011-11-07
• 公開（公告）號: CN103095979A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 李運錦
• 申請（專利權）人: 華晶科技股份有限公司
• 主分類號: H04N5/232
• 分類號: H04N5/232;H04N5/243;G06T5/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

1.一種人臉過曝的影像處理方法，適用于一影像擷取裝置，包括：

擷取一待處理影像，并針對該待處理影像進行一人臉檢測程序，藉以定義出包括至少一人臉的一人臉區域；

分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在一過曝區域；

若是，對該待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出一第一曝光影像與一第二曝光影像；以及

利用在該第一曝光影像中與該過曝區域相對應的區域與該第二曝光影像進行影像混合，藉以產生一處理后影像。

2.根據權利要求1所述的人臉過曝的影像處理方法，其中分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在該過曝區域的步驟包括：

分析并統計該人臉區域內的每一像素點的亮暗分布，進而產生一亮度分布圖；

判斷用以表達該亮度分布圖的位元數是否超過一預設位元數；以及

若表達該亮度分布圖的位元數超過該預設位元數，利用該待處理影像定義出該過曝區域。

3.根據權利要求2所述的人臉過曝的影像處理方法，其中對該待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出該第一曝光影像與該第二曝光影像的步驟包括：

分析該亮度分布圖以擷取該待處理影像中較高位元部分的影像作為該第一曝光影像；以及

分析該亮度分布圖以擷取該待處理影像中較低位元部分的影像作為該第二曝光影像。

4.一種人臉過曝的影像處理方法，適用于一影像擷取裝置，包括：

設定一第一曝光模式藉以擷取一第一待處理影像，并設定一第二曝光模式藉以擷取一第二待處理影像，其中，該第一曝光模式的曝光時間小于該第二曝光模式的曝光時間；

對該第二待處理影像進行一人臉檢測程序，藉以定義出包括至少一人臉的一人臉區域；

分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在一過曝區域；以及

若是，利用在該第一待處理影像中與該過曝區域相對應的區域與該第二待處理影像進行影像混合，藉以產生一處理后影像。

5.根據權利要求4所述的人臉過曝的影像處理方法，其中在擷取該第一待處理影像與該第二待處理影像后，還包括：

對該第一待處理影像與該第二待處理影像進行幾何校正，藉以產生一第一校正后影像與一第二校正后影像，進而對該第二校正后影像進行該人臉檢測程序。

6.根據權利要求4所述的人臉過曝的影像處理方法，其中分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在該過曝區域的步驟包括：

分析并統計該人臉區域內的每一像素點的亮暗分布，進而產生一亮度分布圖；

判斷用以表達該亮度分布圖的位元數是否超過一預設位元數；以及

若判斷表達該亮度分布圖的位元數超過該預設位元數，利用該第二待處理影像定義出該過曝區域。

7.一種處理人臉過曝的影像擷取裝置，包括：

一影像擷取模組，用以擷取一待處理影像；

一人臉檢測模組，耦接至該影像擷取模組，接收該待處理影像并對該待處理影像進行一人臉檢測，藉以定義出包括至少一人臉的一人臉區域；

一影像處理模組，耦接至該人臉檢測模組，分析該人臉區域內的影像亮暗分布，并判斷該人臉區域內是否存在一過曝區域，若是，該影像處理模組對該待處理影像進行數字影像處理藉以模擬出一第一曝光影像與一第二曝光影像；以及

一影像混合模組，耦接至該影像處理模組，利用在該第一曝光影像中與該過曝區域相對應的區域與該第二曝光影像進行影像混合，藉以產生一處理后影像。

8.根據權利要求7所述的處理人臉過曝的影像擷取裝置，其中：

該影像處理模組分析并統計該人臉區域內的每一像素點的亮暗分布，進而產生一亮度分布圖，并判斷用以表達該亮度分布圖的位元數是否超過一預設位元數，若表達該亮度分布圖的位元數超過該預設位元數，該影像處理模組利用該待處理影像定義出該過曝區域。

9.根據權利要求8所述的處理人臉過曝的影像擷取裝置，其中：

該影像處理模組分析該亮度分布圖以擷取該待處理影像中較高位元部分的影像作為該第一曝光影像，該影像處理模組并擷取該待處理影像中較低位元部分的影像作為該第二曝光影像。