[發(fā)明專利]液體噴射設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110333847.8
• 申請日: 2011-10-28
• 公開（公告）號: CN102555456A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山本晉也
• 申請（專利權(quán)）人: 兄弟工業(yè)株式會社
• 主分類號: B41J2/01
• 分類號: B41J2/01;B41J11/00;B41J29/12
• 代理公司: 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11219
• 代理人: 車文;張建濤

1.一種液體噴射設(shè)備，包括：

第一殼體；

第二殼體；

抑制部；和

控制器，

其中所述第一殼體能夠相對于所述第二殼體在所述第一殼體接近所述第二殼體的接近位置和離所述第二殼體比所述接近位置離所述第二殼體遠的間隔位置之間移動，所述第一殼體容納包括噴射表面的液體噴射頭，所述噴射表面具有多個噴射開口，液體經(jīng)由所述多個噴射開口噴射到記錄介質(zhì)上，

其中所述第二殼體容納：

支撐部，所述支撐部包括支撐表面，所述支撐表面用于在與所述噴射表面面對的同時支撐所述記錄介質(zhì)；和

移動裝置，所述移動裝置被構(gòu)造成使所述支撐部移動，使得所述支撐表面選擇性地采取所述支撐表面與所述噴射表面面對的第一狀態(tài)和所述支撐表面不與所述噴射表面面對的第二狀態(tài)，

其中所述抑制部被構(gòu)造成抑制位于所述接近位置處的所述第一殼體的移動，并且

其中所述控制器被構(gòu)造成控制所述移動裝置，使得當所述控制器已接收到表示所述抑制部的抑制被解除的抑制解除信號時，所述支撐表面采取所述第二狀態(tài)。

2.如權(quán)利要求1所述的液體噴射設(shè)備，

其中所述第二殼體還容納具有面對表面的維護部，所述維護部采取所述面對表面與所述噴射表面面對的姿勢，并且

其中所述移動裝置被構(gòu)造成使所述支撐部和所述維護部移動，使得在所述第一狀態(tài)下所述支撐表面與所述噴射表面面對且所述面對表面不與所述噴射表面面對，并且使得在所述第二狀態(tài)下所述支撐表面不與所述噴射表面面對且所述面對表面與所述噴射表面面對。

3.如權(quán)利要求2所述的液體噴射設(shè)備，其中所述控制器被構(gòu)造成控制所述移動裝置，使得在液體被從所述噴射開口噴射到所述記錄介質(zhì)上的記錄模式下所述支撐表面采取所述第一狀態(tài)，并且使得在對所述噴射表面進行維護的維護模式下所述支撐表面采取所述第二狀態(tài)。

4.如權(quán)利要求2或3所述的液體噴射設(shè)備，

其中所述維護部包括用于清潔所述面對表面的清潔構(gòu)件，并且

其中所述控制器被構(gòu)造成控制所述維護部，使得在所述第一殼體已從所述間隔位置移動到所述接近位置之后所述清潔構(gòu)件清潔所述面對表面。

5.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的液體噴射設(shè)備，還包括輸送部，所述輸送部被構(gòu)造成將所述記錄介質(zhì)輸送到與所述噴射表面面對的所述支撐表面上，

其中所述控制器被構(gòu)造成控制所述液體噴射頭和所述輸送部，使得當所述液體被從所述噴射開口噴射到所述記錄介質(zhì)上的記錄模式下所述控制器已接收到所述抑制解除信號時，結(jié)束從所述噴射開口噴射所述液體和所述記錄介質(zhì)的輸送。

6.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的液體噴射設(shè)備，還包括卡阻檢測部，所述卡阻檢測部被構(gòu)造成檢測所述記錄介質(zhì)的卡阻的出現(xiàn)，

其中所述控制器被構(gòu)造成控制所述移動裝置，使得當所述卡阻檢測部已檢測到卡阻出現(xiàn)時所述支撐表面采取所述第二狀態(tài)。

7.如權(quán)利要求2或3所述的液體噴射設(shè)備，其中所述控制器被構(gòu)造成在對所述噴射表面進行維護的維護模式下控制所述液體噴射頭和所述移動裝置，使得進行用于將所述液體從所述噴射開口噴射到所述面對表面上的強制噴射操作。

8.如權(quán)利要求7所述的液體噴射設(shè)備，

其中，當所述控制器在控制所述液體噴射頭進行所述強制噴射操作時已接收到所述抑制解除信號時，所述控制器控制所述液體噴射頭結(jié)束所述強制噴射操作。

9.如權(quán)利要求8所述的液體噴射設(shè)備，

其中所述維護部包括用于清潔所述面對表面的清潔構(gòu)件，并且

其中，在所述控制器控制所述液體噴射頭結(jié)束所述強制噴射操作之后，所述控制器控制所述維護部使得所述清潔構(gòu)件清潔所述面對表面。

10.如權(quán)利要求2至3中任一項所述的液體噴射設(shè)備，還包括環(huán)形構(gòu)件，所述環(huán)形構(gòu)件設(shè)置在所述液體噴射頭上以便包圍所述噴射表面，

其中所述環(huán)形構(gòu)件位于所述環(huán)形構(gòu)件的末端保持與所述面對表面接觸的位置處，使得在所述噴射表面和所述面對表面之間形成的噴射空間與外部空間隔離。