[發明專利]一種電容觸屏雙面電極制作方法

無效

• 申請號: 201110331335.8
• 申請日: 2011-10-27
• 公開（公告）號: CN102323869A
• 公開（公告）日: 2012-01-18
• 發明（設計）人: 劉明濤
• 申請（專利權）人: 東莞市潤華光電有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及電子元器件中的觸摸屏的制作方法，特別涉及一種電容觸屏雙面電極制作方法。

背景技術

Apple推出的iPhone提供的友好人機界面，流暢操作性能使電容式觸摸屏受到了市場的追捧，各種電容式觸摸屏產品紛紛面世。而目隨著工藝進步和批量化，它的成本不斷下降，開始顯現逐步取代電阻式觸摸屏的趨勢。電容觸摸屏可實現多點和準確的觸摸感應，而且結構簡單、透光率高，是當前顯示觸控技術發展的主流方向。觸控技術發展的主流方向。電容觸摸屏的觸摸感應部件一般為多個行電極、列電極相互交錯形成的感應矩陣，行電極和列電極設置在一片透明基板的雙面上。典型的金屬雙面電極的制作方法包括：（基板進入電極的制作已經鍍上了ITO）

第一步：正面ITO層涂上光刻膠、曝光、顯影并固化形成刻膠圖案；

第二步：反面ITO層涂上光刻膠、烘干固化保護反面ITO；

第三步，蝕刻正面ITO，形成ITO圖案或線路、剝離光刻膠；

第四步：反面ITO層涂上光刻膠、曝光、顯影并固化形成光刻膠圖案；

第五步：正面ITO層涂上光刻膠、烘干固化保護正面ITO；

第六步，蝕刻反面ITO，形成ITO圖案或線路、剝離光刻膠、由鍍膜線反面鍍MOALMO；

第七步：反面MOALMO層涂上光刻膠、曝光、顯影形成圖案；

第八步：蝕刻反面MOALMO，形成MOALMO圖案或線路、剝離反面光刻膠。

在制作工藝方面存在的問題是:在基板的正面涂布光刻膠，經光刻、固化后，必須在基板反面涂布光刻膠保護層，才能進行正面刻蝕導電層;然后將正反面的光刻膠去除后，再在反面涂布光刻膠、經過光刻、固化后，仍然需要在正面涂布光刻膠保護層，才能進行反面刻蝕導電層。因此這方法步驟繁雜、效率低下，制作成本較高。

中國發明專利說明書CN102096535A中公開了一種制作電容觸摸屏的方法，其特征在于包括如下步驟:1.基板的雙面分別鍍導電層；2.?正面導電層上涂布光刻膠、曝光、顯影、鈍化；3.反面導電層上涂布光刻膠、曝光、顯影、加熱固化；4、兩面的透明導電材料同時蝕刻；9、去除兩面的光刻膠。本發明的優勢在于:由于正面光刻膠進行的鈍化處理:分解了正面光刻膠的光敏劑，可以讓雙面透明導電圖案同時蝕刻;這樣可以減少生產工序，可以節約流程時間，減少材料。此發明方法生產成本看似降低，但是在實際生產中光刻度極易磨損，---不良品很高，所以實在是得不償失的。

發明內容

本發明為了克服以上現有技術存在的缺點提出的，其所解決的技術問題是提供一種在兩道工序上用可剝膠代替光刻膠的電容觸屏雙面電極制作方法。

為此，本發明提供了一種電容觸屏雙面電極制作方法，其中包括下列步驟（原片進入黃光線時，兩面已經鍍上ITO）：

第一步：正面ITO層涂上光刻膠、曝光、顯影并固化形成刻膠圖案；

第二步：反面ITO層絲印可剝膠并烘干固化保護反面ITO；

第三步，蝕刻正面ITO，形成ITO圖案或線路、剝離光刻膠和可剝膠；

第四步：反面ITO層涂上光刻膠、曝光、顯影并固化形成光刻膠圖案；

第五步：正面ITO層絲印可剝膠并烘干固化保護正面ITO；

第六步，蝕刻反面ITO，形成ITO圖案或線路、剝離光刻膠和可剝膠、由鍍膜線反面鍍MOALMO；

第七步：反面MOALMO層涂上光刻膠、曝光、顯影形成圖案；

第八步：蝕刻反面MOALMO，形成MOALMO圖案或線路、剝離反面光刻膠。

所述可削膠是一種單組份絲印保護油墨，固體含量是100%，顏色為藍色的粘稠狀液體，是一種臨時涂層，粘稠狀液體。

用可剝膠代替光刻膠涂保護層，參加反應蝕刻反應，保護ITO不被蝕刻，不會影響電極的線性，投入成本少，可剝膠代替部分光刻膠在價格上有優勢，另外這兩道工序用可剝膠代替光刻膠就會占用絲印機而把黃光線空出來生產其他工序或產品，提高產能，絲印機投入成本五萬元左右，而黃光線投入成本為幾百萬。

本發明的有益效果為：在第二步和第五步中使用了可剝膠代替了光刻膠涂保護層，優化了生產流線，提高產能，操作簡單，降低了成本。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細的說明。

圖1為本發明的一種流程示意圖。

具體實施方式

如圖1所示，本發明提供的一種制作電容觸屏的方法，其特征在于包括如下步驟：