[發明專利]蒸汽式理發設備

有效

• 申請號: 201110322518.3
• 申請日: 2011-10-21
• 公開（公告）號: CN102462123A
• 公開（公告）日: 2012-05-23
• 發明（設計）人: 格扎維?！ね咧x龍;伯努瓦·蘭格蘭;雷吉斯·弗雷爾;馬克·勒格雷恩
• 申請（專利權）人: SEB公司
• 主分類號: A45D1/20
• 分類號: A45D1/20;A45D4/04;A45D4/10
• 代理公司: 北京萬慧達知識產權代理有限公司 11111
• 代理人: 白華勝;張一軍

1.一種用于使頭發成型的蒸汽式理發設備(1)，所述設備(1)包括：

彼此相對設置的第一頰板(2)和第二頰板(3)，第一處理表面(4)由所述第一頰板(2)承載，第二處理表面(5)由所述第二頰板(3)承載，所述處理表面(4、5)用于夾緊發綹；

液體容器(19)；

與所述容器(19)流體連通的液體蒸發機構(7)；以及

與所述蒸發機構(7)連通的蒸汽分配機構(7”)，所述蒸汽分配機構具有一個或多個朝向發綹的蒸汽分配孔(75)，

其特征在于，所述蒸發機構(7)包括形成單一空間的第一蒸發室(71)和配備有擋板(73)的第二蒸發室(72)，所述第一蒸發室(71)和所述第二蒸發室(72)是流體連通的，并且，所述第一蒸發室(71)的內部體積(V1)大于所述第二蒸發室(72)的內部體積(V2)。

2.根據權利要求1所述的設備，其中，所述第一蒸發室(71)在蒸汽通過方向上布置在所述第二蒸發室(72)的上游。

3.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述第一蒸發室(71)的內部體積(V1)至少大于所述第二蒸發室(72)的內部體積(V2)的兩倍。

4.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述擋板(73)是彼此平行分布的。

5.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述第二蒸發室(72)包括至少三個擋板(73)，甚至四個或五個擋板。

6.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述第一蒸發室(71)具有大致平行六面體的空間，所述空間具有一截面，該截面選自以下截面中的一個：矩形截面、方形截面、梯形截面。

7.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述分配機構(7”)布置在所述蒸發機構(7)的旁側并優選地在所述蒸發機構(7)的大致整個長度上延伸。

8.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述第一蒸發室(71)具有呈供水管(74)形式的進水口，所述供水管(74)的孔布置在所述第一蒸發室(71)的大致中央。

9.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述第一蒸發室(71)具有呈供水管(74)形式的進水口，所述供水管(74)的孔布置在所述第一蒸發室(71)的長度的大致第一四分之一處。

10.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述第一蒸發室(71)具有呈管形式的進水口，所述管采用包括或覆蓋有PTFE的材料制成。

11.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述設備包括至少一個專用于所述蒸發機構(7)的加熱元件(8)。

12.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述加熱元件(8)布置成抵靠所述蒸發機構(7)的最大外表面，優選地與所述分配孔(75)相對設置。

13.根據權利要求1至11中任一項所述的設備，所述設備包括兩個加熱元件(8)，所述兩個加熱元件(8)被布置成側向抵靠所述蒸發機構(7)的每個側部。

14.根據權利要求11至13中任一項所述的設備，其中，所述一個或多個加熱元件(8)用于由熱敏電阻(7”’)調節。

15.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述蒸發機構(7)的內表面的至少一部分具有顆粒狀覆蓋層和/或至少部分地覆蓋有抗球騰態物質。

16.根據上述權利要求中任一項所述的設備，其中，所述兩個頭發處理表面(4、5)是大致互補的且是平坦的、彎曲的或者波紋的形狀。