[發明專利]顯影盒以及成像裝置

有效

• 申請號: 201110321557.1
• 申請日: 2011-10-20
• 公開（公告）號: CN102339002A
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發明（設計）人: 吳連俊;曹玉兵
• 申請（專利權）人: 珠海賽納打印科技股份有限公司
• 主分類號: G03G15/08
• 分類號: G03G15/08;G03G15/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

1.一種顯影盒，其特征在于，包括：

顯影盒殼體，所述顯影盒殼體上設置有與其配合的零部件；

密封結構，所述密封結構設置在所述顯影盒殼體與所述零部件之間；

所述密封結構包括：設置在所述顯影盒殼體上并具有凸凹結構的接觸部，以及壓設在所述接觸部上的密封件。

2.根據權利要求1所述的顯影盒，其特征在于，所述顯影盒殼體包括粉倉殼體；

所述粉倉殼體上設置有碳粉限制元件和顯影元件，其中，所述顯影元件的兩端旋轉設置在所述粉倉殼體的端部；所述碳粉限制元件固設在所述粉倉殼體上，并沿所述顯影元件軸向方向彈性抵壓在所述顯影元件上；

所述密封結構位于粉倉殼體與碳粉限制元件和/或顯影元件之間。

3.根據權利要求1所述的顯影盒，其特征在于，所述顯影盒殼體包括廢粉倉殼體，所述廢粉倉殼體上設置清潔刮刀和清潔刮片，所述密封結構位于廢粉倉殼體與清潔刮刀和/或清潔刮片之間。

4.根據權利要求2所述的顯影盒，其特征在于，所述粉倉殼體的端部與所述顯影元件相對的位置設置有凹槽，所述凹槽內的上下表面均為凸凹結構的接觸面，所述凹槽內壓設有密封件，所述密封件與所述凸凹結構的接觸面過盈配合。

5.根據權利要求3所述的顯影盒，其特征在于，所述廢粉倉殼體的端部與所述清潔刮刀和/或清潔刮片對應的位置設置有凹槽，所述凹槽內的上下表面均為凸凹結構的接觸面，所述凹槽內壓設有密封件，所述密封件與所述凸凹結構的接觸面過盈配合。

6.根據權利要求1-5任一所述的顯影盒，其特征在于，所述凸凹結構為齒狀結構。

7.根據權利要求6所述的顯影盒，其特征在于，所述凸凹結構的接觸部包括：沿所述顯影盒殼體縱向方向設置的多個齒，所述齒由相交為θ角度的兩個面構成，所述θ范圍是15°≤θ≤75°。

8.根據權利要求7所述的顯影盒，其特征在于，所述θ范圍是30°≤θ≤60°。

9.根據權利要求8所述的顯影盒，其特征在于，所述構成齒的兩個面中遠離顯影盒殼體端部的面垂直于顯影盒殼體縱向方向。

10.根據權利要求9所述的顯影盒，其特征在于，遠離所述顯影盒殼體的端部的齒高度不大于靠近所述顯影盒殼體的端部的齒的高度。

11.根據權利要求7所述的顯影盒，其特征在于，所述凸凹結構的根部具有生長面，所述生長面與所述顯影盒殼體縱向方向呈一傾斜角α，使得所述凸凹結構的上下表面之間的距離隨著靠近所述顯影盒殼體的端部而逐漸減小，其中所述α的范圍為α≤45°。

12.根據權利要求11所述的顯影盒，其特征在于，所述α的范圍為5°≤α≤15°。

13.一種成像裝置，包括成像裝置主體和顯影盒，其特征在于，所述顯影盒為采用上述權利要求1-12任一所述的顯影盒。