[發(fā)明專利]基板及包括該基板的液晶顯示器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110316555.3 | 申請日: | 2011-10-18 |
| 公開(公告)號: | CN102455548A | 公開(公告)日: | 2012-05-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李宰源;盧韶穎;金圣基;金鎮(zhèn)必;孫庚模 | 申請(專利權(quán))人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1337 | 分類號: | G02F1/1337;G02F1/1333;H01L27/12 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;呂俊剛 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 包括 液晶顯示 器件 | ||
本申請要求于2010年10月18日提交的韓國專利申請No.10-2010-0101313的權(quán)益,此處以引證的方式并入其全部內(nèi)容。
技術領域
本公開涉及液晶顯示器件,并且尤其是涉及具有用于防止取向膜的框(mount)的裝置的基板和包括該基板的液晶顯示器件。
背景技術
近來,液晶顯示(LCD)器件由于其低功耗和良好的便攜性,已經(jīng)作為具有高附加值的下一代顯示器件而倍受關注。
包括作為多個像素的切換器件的薄膜晶體管的有源矩陣液晶顯示(AM-LCD)器件由于其高分辨率和在顯示運動圖像方面的優(yōu)越性而被廣泛使用。
通常,通過用于在陣列基板上形成薄膜晶體管和像素電極的陣列基板工藝、用于在濾色器基板上形成濾色器層和公共電極的濾色器基板工藝以及用于在陣列基板和濾色器基板之間形成液晶層的單元工藝來制造LCD器件。
圖1是示出了根據(jù)相關技術的液晶顯示器件的分解立體圖。在圖1中,液晶顯示(LCD)器件包括陣列基板10、濾色器基板20和位于陣列基板10和濾色器基板20之間的液晶層30。陣列基板10包括第一基板12、位于第一基板12上的選通線14、與選通線14交叉以限定像素區(qū)域P的數(shù)據(jù)線16、與選通線14和數(shù)據(jù)線16連接的薄膜晶體管(TFT)T以及與TFT?T連接的像素電極18。
另外,面向陣列基板10的濾色器基板20包括第二基板22、阻擋與選通線14、數(shù)據(jù)線和TFT?T對應的非顯示區(qū)域的黑底25、濾色器層26以及在第二基板22的整個表面上的公共電極28,濾色器層26包括紅色濾色器26a、綠色濾色器26b和藍色濾色器26c,各紅色濾色器26a、綠色濾色器26b和藍色濾色器26c對應于像素區(qū)域P。
盡管在圖1中沒有示出,可以在矩陣基板10和濾色器基板20之間的邊界部分中形成密封圖案,用于防止液晶層30的泄露??梢栽陉嚵谢?0和液晶層30之間形成下取向膜,且可以在濾色器基板20和液晶層30之間形成上取向膜,以用于初始地對液晶層進行配向。而且,可以在第一基板12和第二基板22中的至少一個的外表面上形成起偏振片。
可以在陣列基板10的下面布置背光單元以供應光。當將用于導通TFT?T的選通信號按序供應給選通線14時,TFT?T導通且供應給數(shù)據(jù)線16的數(shù)據(jù)信號通過TFT?T而施加到像素電極18。結(jié)果,在像素電極18和公共電極28之間產(chǎn)生垂直電場,且液晶層30中的液晶分子通過垂直電場而重新配向,由此LCD器件由于液晶層30的透射率變化而顯示圖像。
通過經(jīng)由針對源材料的沉積步驟、曝光步驟、顯影步驟和刻蝕步驟在第一基板12上形成選通線14、數(shù)據(jù)線16、TFT?T和像素電極18而制作陣列基板10。通過在第二基板22上形成濾色器層26和公共電極28而制作濾色器基板。另外,通過附接陣列基板10和濾色器基板12且在陣列基板10和濾色器基板12之間夾置液晶層30而制作液晶面板,且通過將驅(qū)動電路附接到液晶面板而完成LCD器件。
由于LCD器件使用液晶的由液晶分子的各向異性和排列狀態(tài)決定的光電效應,因此對液晶分子的排列狀態(tài)的調(diào)節(jié)影響LCD器件的顯示質(zhì)量的穩(wěn)定性。為了獲得液晶分子的均勻的初始排列狀態(tài),執(zhí)行取向過程。
在取向過程中,通過印刷諸如聚酰亞胺的聚合物材料而在陣列基板和濾色器基板中的每一個上形成取向膜,且將取向膜沿著預定方向與摩擦布進行摩擦。結(jié)果,取向膜中的聚合物鏈沿著預定方向配向以具有方向性且液晶分子由于取向膜而具有均勻的初始排列狀態(tài)。
當在印刷步驟中取向膜被形成為在顯示區(qū)域上具有不均勻的厚度時,則在后續(xù)的摩擦步驟中,取向膜惡化。因此,取向膜需要具有均勻的厚度。
圖2是示出了根據(jù)相關技術的取向膜印刷裝置的截面圖,且圖3是示出了根據(jù)相關技術的取向膜印刷器件中的轉(zhuǎn)印板和基板的截面圖。在圖2中,印版滾筒51和基板60彼此接觸,印版滾筒51和基板60之間夾置有轉(zhuǎn)印板53,且通過添加壓力將聚合物材料轉(zhuǎn)印到基板60以形成取向膜63。由于具有聚合物材料的轉(zhuǎn)印板53接觸基板60且被壓向基板60,從轉(zhuǎn)印板53轉(zhuǎn)印到基板60的聚合物材料向所有方向擴展。盡管對應于圖案區(qū)域54(圖3中)的取向膜63具有均勻厚度,但對應于圖案區(qū)域54外面的取向膜63具有更大的厚度,因為該取向膜63未被按壓。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





