[發(fā)明專利]極紫外（EUV）光刻膠超高真空熱處理檢測裝置與方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110315017.2 | 申請日： | 2011-10-17 |
| 公開（公告）號： | CN103048377A | 公開（公告）日： | 2013-04-17 |
| 發(fā)明（設計）人： | 楊國強;田凱軍;陳力;王雙青;李沙瑜 | 申請（專利權）人： | 中國科學院化學研究所 |
| 主分類號： | G01N27/62 | 分類號： | G01N27/62 |
| 代理公司： | 北京中創(chuàng)陽光知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11003 | 代理人： | 尹振啟 |
| 地址： | 100190 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 紫外 euv 光刻 超高 真空 熱處理 檢測 裝置 方法 | ||
1.一種極紫外光刻膠超高真空加熱處理的檢測裝置，其特征在于：包括真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、質譜系統(tǒng)、中心控制系統(tǒng)，所述加熱系統(tǒng)位于真空系統(tǒng)內(nèi)，質譜系統(tǒng)與真空系統(tǒng)相連，所述中心控制系統(tǒng)通過電腦來集中控制真空系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、質譜系統(tǒng)，進行數(shù)據(jù)采集與計算。
2.根據(jù)權利要求1所述的檢測裝置，其特征在于：所述真空系統(tǒng)包括樣品檢測腔、真空泵組(優(yōu)選包括無油干泵、分子泵、離子泵)，在所述樣品檢測腔和真空泵組之間優(yōu)選使用插板閥，用于樣品檢測腔與真空泵組的隔離與連接，所述樣品檢測腔優(yōu)選包括真空檢測設備(如高精度真空規(guī))。
3.根據(jù)權利要求2所述的檢測裝置，其特征在于：所述加熱系統(tǒng)位于樣品檢測腔內(nèi)，包括加熱臺和溫度控制裝置，所述加熱臺優(yōu)選采用高精度程序控制熱臺，所述質譜系統(tǒng)與樣品檢測腔相連，包括質譜檢測器。
4.根據(jù)權利要求2-3任一項所述的檢測裝置，其特征在于：所述真空系統(tǒng)還包括樣品置換腔，所述樣品置換腔分別與樣品檢測腔和真空泵組相連，在所述樣品置換腔與樣品檢測腔之間優(yōu)選使用插板閥，用于樣品檢測腔與樣品置換腔的隔離與連接，所述樣品置換腔優(yōu)選包括真空檢測設備，例如高精度真空規(guī)。
5.根據(jù)權利要求4所述的檢測裝置，其特征在于：所述樣品置換腔與樣品檢測腔的連接優(yōu)選使用磁力桿樣品輸運裝置。
6.根據(jù)權利要求4-5任一項所述的檢測裝置，其特征在于：在所述樣品置換腔與真空泵組之間還包括插板閥，用于樣品置換腔與真空泵組的隔離與連接，所述樣品置換腔還包括樣品進樣口。
7.一種極紫外光刻膠超高真空加熱處理所產(chǎn)生的殘余氣體的檢測方法，其特征在于：使用如權利要求1-6任一項所述的檢測裝置進行檢測。
8.根據(jù)權利要求7所述的檢測方法，通過公式(1)和公式(2)來確定加熱產(chǎn)生氣體的速率NR(molecules·cm-2·s-1)和總的產(chǎn)氣量ND(molecules.cm-2)，
其中，ΔPmax是加熱情況下腔內(nèi)壓強的最大升高值(Pa)，Se是真空泵組的抽氣速率(m3·s-1)，Na是阿佛加德羅常數(shù)(molecules)，ΔPi是在起始檢測時間ts(s)到終止檢測時間tD(s)之間腔內(nèi)特定時刻i時的真空度(Pa)，Δt是加熱時間(s)，A是光刻膠樣品的表面積(cm2)，R為氣體常數(shù)(Pa.m-3·K-1)，T為溫度(K)。
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