[發明專利]貼膜式花崗巖基底大口徑光學反射鏡無效
| 申請號: | 201110311669.9 | 申請日: | 2011-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN102323631A | 公開(公告)日: | 2012-01-18 |
| 發明(設計)人: | 廖廷俤;李新南;王新橋 | 申請(專利權)人: | 日芯光伏科技有限公司;中國科學院國家天文臺南京天文光學技術研究所 |
| 主分類號: | G02B5/08 | 分類號: | G02B5/08;G02B7/182;B32B9/04;B32B15/00 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 貼膜式 花崗巖 基底 口徑 光學 反射 | ||
技術領域
本發明屬于應用光學領域,特別是涉及一種貼膜式花崗巖基底大口徑光學反射鏡。
背景技術
太陽模擬器是在生產線上測試高倍聚光發電組件性能中使用的關鍵設備。通常是采用閃光式太陽模擬器。該太陽模擬器是用來產生模擬太陽光的光源設備。其產生的模擬太陽光的光譜匹配性,瞬態穩定性,均勻性,準直性及光照度等與自然太陽光的性能接近的程度需要符合相關的國際標準。
為了測試大尺寸模組(如1400x1400mm),需要直徑足夠大的模擬太陽光束(如光束直徑2000MM)。產生大口徑的平行光束需要大口徑的準直光學系統。通常是采用大口徑球面或非球面反射鏡做準直物鏡。由于大尺寸光學玻璃的不易獲得及其高成本,故難以得到采用。目前國外提出采用金屬鋁鑄造品為材料,利用大型數控精密車床來加工制造這種反射鏡體,并在反射表面上貼高反射膜來提高鏡面的反射率。但鋁材的表面加工性能欠佳,鋁的膨脹系數較高,熱穩定性比玻璃差,且鋁鑄造品的成本較高。用鋁材制造的反射鏡的光學性能有一定的限制。
發明內容
本發明的目的在于提供一種表面加工性能較好、面型精度較高、成本較低、穩定性高的貼膜式花崗巖基底大口徑光學反射鏡。
為實現上述目的,本發明的技術解決方案是:
本發明是一種貼膜式花崗巖基底大口徑光學反射鏡,它包括一光學反射鏡體;所述的光學反射鏡體采用膨脹系數較低的花崗巖制成。
所述的光學反射鏡體的反射面經物理或化學處理形成一層反射率高的反射層。
所述的光學反射鏡體反射面的經物理處理的反射層為在反射面上粘貼高反射率的鋁或其它金屬薄膜。
所述的光學反射鏡體反射面的經物理處理的反射層為在反射面上真空鍍上高反射率的金屬膜系。
所述的光學反射鏡體反射面的經化學處理的反射層為在反射面上電鍍上高反射率的金屬膜系。
采用上述方案后,由于本發明采用花崗巖制成平面反射鏡體、球面與非球面準直反射鏡體,花崗巖膨脹系數較低,機械穩定性與光學玻璃接近,表面加工性能較好,面型精度較高,可采用光學玻璃的加工設備與技術來生產,而且大尺寸花崗巖材料易獲取,可大大降低制造成本。
下面結合附圖和具體實施例對本發明作進一步的說明。
附圖說明
圖1是本發明的正視圖;
圖2是本發明反射鏡體的反射面經物理處理的側視圖;
圖3是本發明反射鏡體的反射面經化學處理的側視圖;
圖4是本發明的應用實例圖。
具體實施方式
如圖1所示,本發明是一種貼膜式花崗巖基底大口徑光學反射鏡,它包括一光學反射鏡體1,該反射鏡體1可以是平面反射鏡體、或球面準直反射鏡體、或非球面準直反射鏡體。
所述的光學反射鏡體1采用膨脹系數低的花崗巖制成。
如圖2所示,所述的光學反射鏡體1的反射面經物理處理,即,在反射面上粘貼高反射率的鋁薄膜11,從而在反射面上形成一層反射率高的反射層11。
如圖3所示,所述的反射鏡體1的反射面經物理處理,即,在反射面上鍍上高反射率的金屬膜系,從而在反射面上形成一層反射率高的反射層11。
本發明提出一種使用花崗巖取代光學玻璃及金屬鋁材,用光學玻璃的精密加工技術來制造花崗巖平面反射鏡體,球面與非球面反射鏡體。為了有效地提高光的反射率,還需要在花崗巖平面反射鏡體,球面與非球面反射鏡體上進行物理處理(如粘貼高反射率的鋁或其它金屬薄膜、真空鍍上高反射率的金屬膜系)或化學處理(如電鍍上高反射率的金屬膜系),,從而獲得用作光學反射鏡的技術途徑。
本發明的花崗巖光學反射鏡體1可應用于以下場合:
1.????使用花崗巖平面反射鏡作光束轉向及其在光學儀器中的應用;
2.????使用花崗巖球面反射鏡來產生光束聚焦或準直(光路圖如圖4所示)及其在光學儀器中的應用;
3.????使用花崗巖非球面反射鏡來產生光束聚焦或準直及其在光學儀器中的應用;
4.????使用花崗巖球面反射鏡在太陽模擬器中用作大口徑光學準直反射鏡;
5.????使用花崗巖非球面反射鏡在太陽模擬器中用作大口徑光學準直反射鏡;
6.????使用花崗巖平面反射鏡在以太陽模擬器為光源的高倍聚光太陽能發電模組組件性能測試光學系統中用作大口徑光束的轉向。
本發明的重點就在于:所述的光學反射鏡體采用膨脹系數較低的花崗巖制成。
以上所述,僅為本發明較佳實施例而已,故不能以此限定本發明實施的范圍,即依本發明申請專利范圍及說明書內容所作的等效變化與修飾,皆應仍屬本發明專利涵蓋的范圍內。
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