[發(fā)明專利]數(shù)字微鏡器件及其形成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110296196.X
• 申請日: 2011-09-30
• 公開（公告）號: CN102360120A
• 公開（公告）日: 2012-02-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 毛劍宏;唐德明
• 申請（專利權(quán)）人: 上海麗恒光微電子科技有限公司
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08;B81C1/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種數(shù)字微鏡器件，其特征在于，包括：

基底，所述基底上形成有微鏡器件控制電路結(jié)構(gòu)；

位于所述基底上的數(shù)字微鏡陣列，數(shù)字微鏡陣列中的每一數(shù)字微鏡包括 一個反光鏡、兩個第一極板、兩個第二極板、鉸鏈；

所述兩個第二極板位于所述基底上，與所述微鏡器件控制電路結(jié)構(gòu)電連 接；

所述兩個第一極板位于所述兩個第二極板上方，且分別與所述兩個第二 極板相對；

所述鉸鏈位于所述第二極板上方；

所述反光鏡位于所述第一極板上方，且所述反光鏡通過第一插栓與兩個 第一極板電連接，所述反光鏡通過第二插栓與所述鉸鏈電連接；在所述第一 極板或第二極板之間具有電壓差時，所述反光鏡繞所述鉸鏈偏轉(zhuǎn)；

還包括：

兩個卡口，所述鉸鏈兩端分別可活動設(shè)于所述兩個卡口內(nèi)，所述卡口固 定且與所述微鏡器件控制電路結(jié)構(gòu)電連接，在所述鉸鏈與所述卡口接觸時， 所述卡口與所述鉸鏈電連接。

2.如權(quán)利要求1所述的數(shù)字微鏡器件，其特征在于，還包括兩個連接端，位 于所述兩個第二極板之間，所述第二極板通過第三插栓與所述微鏡器件控制 電路結(jié)構(gòu)電連接，所述連接端通過第四插栓與所述微鏡器件控制電路結(jié)構(gòu)電 連接；

所述卡口通過第五插栓與所述連接端電連接。

3.如權(quán)利要求2所述的數(shù)字微鏡器件，其特征在于，所述卡口包括底板、頂 板以及側(cè)壁；所述底板與所述第五插栓電連接，所述頂板與所述底板相對， 所述側(cè)壁連接所述底板與所述頂板。

4.如權(quán)利要求1～3任一項所述的數(shù)字微鏡器件，其特征在于，所述鉸鏈包括 導(dǎo)電層和介質(zhì)層，所述導(dǎo)電層靠近所述第二極板，所述介質(zhì)層遠離所述第二 極板。

5.如權(quán)利要求1～3任一項所述的數(shù)字微鏡器件，其特征在于，所述第一極板 包括導(dǎo)電層和介質(zhì)層，所述導(dǎo)電層靠近所述第二極板，所述介質(zhì)層遠離所述 第二極板，所述介質(zhì)層相對于所述導(dǎo)電層具有壓應(yīng)力。

6.如權(quán)利要求1～3任一項所述的數(shù)字微鏡器件，其特征在于，所述第一極板 包括導(dǎo)電層和介質(zhì)層，所述導(dǎo)電層遠離所述第二極板，所述介質(zhì)層靠近所述 第二極板，所述介質(zhì)層相對于所述導(dǎo)電層具有拉應(yīng)力。

7.一種形成權(quán)利要求3所述的數(shù)字微鏡器件的方法，其特征在于，包括：

提供基底，所述基底上形成有微鏡器件控制電路結(jié)構(gòu)；

在所述基底上形成第二極板、兩個連接端以及第二極板、兩個連接端與 所述微鏡器件控制電路結(jié)構(gòu)連接的第三插栓和第四插栓；

形成第一犧牲層，覆蓋所述第二極板、兩個連接端和基底形成的表面， 在所述第一犧牲層的表面形成第一極板；

形成第二犧牲層，覆蓋所述第一極板和所述第一犧牲層，在所述第二犧 牲層和第一犧牲層中形成第五插栓，在所述第五插栓上形成所述卡口的底板；

形成第三犧牲層，覆蓋所述第二犧牲層、所述卡口的底板，在所述第三 犧牲層表面形成鉸鏈；

形成第四犧牲層，覆蓋所述第三犧牲層和鉸鏈，在所述第四犧牲層和第 三犧牲層中形成卡口的側(cè)壁、第四犧牲層的表面形成卡口的頂板；

形成第五犧牲層，覆蓋所述第四犧牲層和所述卡口，在所述第五犧牲層、 第四犧牲層、第三犧牲層、第二犧牲層中形成第一插栓、在所述第四犧牲層 和第五犧牲層中形成第二插栓；

在所述第五犧牲層和第一插栓、第二插栓形成的表面上形成反光鏡，所 述反光鏡與所述第二插栓電連接；

去除第五犧牲層、第四犧牲層、第三犧牲層、第二犧牲層以及第一犧牲 層。