[發(fā)明專利]一種三維連接器件的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110288652.6 | 申請(qǐng)日: | 2011-09-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103025060A | 公開(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 連俊蘭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05K3/00 | 分類號(hào): | H05K3/00;H05K3/02;H05K3/18 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 518118 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 三維 連接 器件 制備 方法 | ||
1.一種三維連接器件的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
A、對(duì)非導(dǎo)電基材進(jìn)行金屬化,在非導(dǎo)電基材表面形成非惰性金屬層;
B、根據(jù)所需電路圖案對(duì)非導(dǎo)電基材表面的非惰性金屬層進(jìn)行激光雕刻,將非惰性金屬層分割為完全分開的電路區(qū)域和非電路區(qū)域;
C、將非導(dǎo)電基材表面的電路區(qū)域與電源負(fù)極接通,將電鍍陽(yáng)極材料與電源正極接通,然后將非導(dǎo)電基材與電鍍陽(yáng)極材料置于酸性或堿性電鍍液中進(jìn)行電鍍處理,電路區(qū)域的非惰性金屬層表面形成電鍍加厚層,非電路區(qū)域的非惰性金屬層被酸性或堿性電鍍液腐蝕去除,得到所述三維連接器件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟A中,對(duì)非導(dǎo)電基材進(jìn)行金屬化的步驟為真空鍍膜、噴鍍或化學(xué)鍍。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,所述化學(xué)鍍包括將非導(dǎo)電基材先粗化,然后膠體鈀活化、解膠,最后置于化學(xué)鍍液中,在非導(dǎo)電基材表面形成所述非惰性金屬層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,所述非惰性金屬層選自銅層、鎳層、錫層、鋅層或鋁層中的一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法,其特征在于,所述非惰性金屬層的厚度為2微米以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟B中,激光雕刻的波長(zhǎng)為200-1200nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制備方法,其特征在于,激光雕刻的激光光斑直徑小于等于0.05mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制備方法,其特征在于,激光雕刻的頻率為15-50KHz,雕刻速度為500-2000?mm/s,功率密度為105-107W/cm2。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的制備方法,其特征在于,電路區(qū)域與非電路區(qū)域的間距為50?-100微米。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,步驟C中,所述酸性或堿性電鍍液選自酸性電鍍銅液、酸性電鍍鎳液、酸性電鍍錫液、堿性電鍍錫液、酸性電鍍鋅液、堿性電鍍鋅液中的一種。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述非導(dǎo)電基材為非導(dǎo)電塑料基材、非導(dǎo)電玻璃基材、非導(dǎo)電橡膠基材、非導(dǎo)電木制品或非導(dǎo)電陶瓷基材。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法,其特征在于,所述非導(dǎo)電塑料基材選自丙烯腈-苯乙烯-丁二烯共聚物基材、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二酯、聚酰亞胺、尼龍液晶高分子聚合物、聚丙烯或聚碳酸酯基材;所述非導(dǎo)電陶瓷基材選自氧化鋁陶瓷、氮化鋁陶瓷或鈦酸鋇陶瓷。
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