[發明專利]用于衛生設備配件的射流出口元件

無效

• 申請號: 201110278174.0
• 申請日: 2005-11-15
• 公開（公告）號: CN102500481A
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: A·哈恩;J·布拉特納;U·金爾;J·阿穆布魯斯特
• 申請（專利權）人: 漢斯格羅股份公司
• 主分類號: B05B1/34
• 分類號: B05B1/34
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張昱;楊國治

本申請是申請日為2005年11月15日、申請號為200580038982.2、發明名稱為“用于衛生設備配件的射流出口元件”的中國專利申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種用于衛生設備配件的所謂的噴射式淋浴頭。

背景技術

噴射式淋浴頭用于形成優選具有平滑流的閉合的自由下落的寬的射出水流。

這種已公知的噴射式淋浴頭具有金屬殼體，所述金屬殼體具有在其側部上的用作水入口的圓形圓柱形噴嘴的特征。進入殼體內的逐漸變得更寬且更平的過渡部與連接噴嘴直接鄰接。殼體相對于連接噴嘴成一定角度。在連接噴嘴與成一定角度的殼體之間的過渡部中，存在使進入的水產生轉向的偏轉器(DE?26?19?415)。

還已公知存在一種噴射式淋浴頭(DE?25?54?723)，對于所述噴射式淋浴頭而言，殼體的一個邊界壁部也從連接噴嘴開始且逐漸變得更寬且更平并且具有紐結部的特征。

在所有已公知的噴射式淋浴頭中，通常情況下，從連接噴嘴開始的殼體內部逐漸轉變成帶狹槽的出口孔。此外，已公知的噴射式淋浴頭是獨立配件，所述獨立配件被直接連接至殼體安裝裝置。

存在應該通過商業衛生設備配件產生噴射流的應用情況。

本發明的任務是提供一種甚至在不適宜的空間條件下也可能產生清潔的噴射流的可能性。

發明內容

為了完成該任務，本發明提出了一種具有權利要求1中提到的特征的射流出口元件。該射流出口元件尤其旨在作為旨在用于產生噴射流的衛生設備配件的一部分。

所述射流出口元件包含兩個隔室，因此存在入口隔室，水入口被引入所述入口隔室中。所述射流從所述射流出口隔室中被泄放出來，由此此處所述水出口還被形成狹槽。在所述兩個隔室之間存在整流器，所述整流器對進入所述入口隔室的所述水流進行調整，并使其均勻化。通過這種方式，可能在獨立于是否適于形成噴射流的情況下設計所述入口隔室中的所述入口。這為設計者在構造其衛生設備配件方面提供了更大的自由度，原因在于他可任意布置所述水入口。

根據本發明，在本發明的進一步發展的方面中，可使得所述出口元件的所述入口隔室具有沿流向的平的矩形剖面的特征。

在本發明的更進一步發展的方面中，可使得所述射流出口隔室具有沿流向的平的矩形剖面的特征。通過這種方式，可能降整個射流出口元件形成可易于安裝在衛生設備配件中的平盤狀部件。

兩個隔室可水平地位于相同的平面中。

在本發明的進一步發展的方面中，可使得所述射流出口隔室具有逐漸減少的高度的特征。

根據本發明的另一個特征，所述射流出口元件可具有位于所述入口隔室與所述出口隔室之間的瓶頸部的特征?？赏ㄟ^減少所述兩個隔室中的至少一個隔室的高度和/或減少至少一個隔室的寬度而形成所述瓶頸部。

如果所述整流器被設置在位于所述入口隔室與所述出口隔室之間的所述瓶頸部的區域中，則是特別適宜的。

為了均勻地且在視覺方面進一步改進射流的形成過程，用于流水的穩定化區域可被布置在根據本發明的整流器的下游。在該穩定化區域中，初始受到調整的水流可再次受到穩定化以便獲得視覺上吸引人的流。

特別是，可使得所述穩定化區域具有阻滯水流的多個阻滯元件的特征。

所述阻滯元件可在所述射流出口隔室的底部與頂部之間進行延伸，原因在于所述隔室的總體設計是平的。例如，所述阻滯元件可包括具有圓形剖面的銷。

所述阻滯元件可被布置成至少一排，由此所述排橫向于所述流向，因此平行于所述狹槽型出口孔進行延伸。特別是，可使得所述阻滯元件被布置成至少兩排，所述至少兩排另一方面被再次布置在間隙上。水圍繞所述阻滯元件進行流動且再次進入阻滯元件內隨后再次流入水再次進行流動所圍繞的阻滯元件內。

為了對于甚至極寬的水出口而言也確保實現水流的均勻分布，在本發明的進一步發展的方面中，可在所述整流器和/或所述阻滯元件的下游設置流形成器。這例如可包括沿流向設置的彼此鄰近的多個伸展的射流形成元件，所述多個伸展的射流形成元件將所述水流分成單個區域，而不會使這些區域彼此隔開。

在本發明的又一發展方面中，使所述水出口的邊緣在與所述流向傾斜對齊的平面中從所述射流出口隔室延伸出來可以是有利的。特別是，使所述射流出口隔室的一個邊界壁部，例如頂部，在所述水出口的區域中相對于所述流向成一定角度地進行延伸可以是有利的?？衫缤ㄟ^在多個步驟中進行圓化或形成一定角度的方式實現使該邊界壁部位于一定角度下的過程。