[發明專利]一種用于半導體外延系統的基座

有效

• 申請號: 201110276973.4
• 申請日: 2011-09-19
• 公開（公告）號: CN102347258A
• 公開（公告）日: 2012-02-08
• 發明（設計）人: 李燮;陸羽;劉鵬;袁志鵬;趙紅軍;張俊業;張國義;孫永健
• 申請（專利權）人: 東莞市中鎵半導體科技有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/205;C30B25/12;C30B23/02
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 譚一兵

1.一種用于半導體外延系統的基座，具有雙重旋轉和升降功能的基座，包含有：大盤（2）、小盤（1），其特征在于：所述大盤（2）內部設有輻射狀的內部氣路通道（23），所述大盤（2）上設有3個以上小盤（1），所述小盤（1）的下部設有扇葉（21），所述大盤（2）的內部氣路通道（23）連通小盤（1），所述大盤（2）中心連接支撐桿（4），所述支撐桿（4）內設有內部氣道（41），所述支撐桿（4）的內部氣道（41）連通大盤（2）的內部氣路通道（23），所述支撐桿（4）中部設有金屬法蘭（5），所述金屬法蘭（5）的中心設有磁流體組件（24），所述磁流體組件（24）包含磁流體軸承（18）和磁流體磁鐵（19），所述磁流體組件（24）內部設有A套管（12），所述A套管（12）的內部設有中空的支撐桿（4），所述支撐桿（4）上位于金屬法蘭（5）之下設有一從動輪（10），所述從動輪（10）一側等高的位置設有主動輪（9），所述主動輪（9）安裝在伺服電機（8）的頂端，所述支撐桿（4）的尾端設有進氣組件，所述進氣組件由軸承組件（15）、B套管（17）和氣體入口（16）組成，所述軸承組件（15）包括軸承和軸承固定件（13），所述軸承固定件（13）與支撐桿（4）固定在一起，所述軸承的外部設有機械手支架（11），所述進氣組件連接機械手支架（11）。

2.根據權利要求1所述的一種用于半導體外延系統的基座，其特征在于：所述大盤（2）內設有三個以上凹槽，每個凹槽內設有小盤（1），所述小盤（1）的上部承載著襯底，襯底的表面與大盤（2）的表面在同一平面，所述小盤（1）的下部設有扇葉（21），所述小盤（1）的下端與凹槽底部的支撐點（22）抵觸。

3.根據權利要求1所述的一種用于半導體外延系統的基座，其特征在于：所述支撐桿（4）的下部設有軸承固定件（13），軸承固定件（13）與支撐桿（4）固定在一起，軸承固定件（13）的上下兩端突出，軸承固定件（13）外設有旋轉軸承（20），機械手支架（11）上開有一孔，機械手支架（11）的孔內設有旋轉軸承（20），支撐桿（4）插入大盤（2）下部的凹槽中以承載大盤（2）。

4.根據權利要求1所述的一種用于半導體外延系統的基座，其特征在于：所述大盤（2）為圓形結構，支撐桿（4）與A套管（12）之間設有橡膠圈（6），A套管（12）的下部設有一從動輪（10），金屬法蘭（5）邊緣與從動輪（10）等高的位置設有主動輪（9），伺服電機（8）通過電機支架（7）固定在金屬法蘭（5）上，主動輪（9）和從動輪（10）之間通過履帶連接。

5.根據權利要求1所述的一種用于半導體外延系統的基座，其特征在于：所述A套管（12）的內部設有中空的支撐桿（4），支撐桿（4）與A套管（12）之間設有橡膠圈（6），金屬法蘭（5）、磁流體軸承（18）、A套管（12）和支撐桿（4）呈軸對稱且是同軸的。

6.根據權利要求1所述的一種用于半導體外延系統的基座，其特征在于：所述磁流體組件（24）包括組件外殼和內部的磁流體軸承（18）、磁流體磁鐵（19），所述進氣組件與機械手支架（11）之間通過螺栓（14）固定在一起。

7.根據權利要求1所述的一種用于半導體外延系統的基座，其特征在于：所述小盤（1）側壁設有氣路出口（3），氣路出口（3）設于大盤（2）內，氣路出口（3）連通內部氣路通道（23）。