[發明專利]減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201110273053.7
• 申請日: 2011-09-15
• 公開（公告）號: CN102424533A
• 公開（公告）日: 2012-04-25
• 發明（設計）人: 趙青南;董玉紅;趙杰;盧秀強
• 申請（專利權）人: 江蘇秀強玻璃工藝股份有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34;B32B17/06
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 柏尚春

1.?一種減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃，其特征在于該雙功能鍍膜玻璃的膜層結構為以下兩種之一：

a.??單面鍍膜玻璃：以玻璃為基底，在玻璃上順序設置二氧化硅隔離膜層、透明導電半導體氧化物膜層、多孔二氧化硅膜層；

b.??雙面鍍膜玻璃：以玻璃為基底，在玻璃的兩面分別順序設置二氧化硅隔離層、透明導電半導體氧化物膜層、多孔二氧化硅膜層。

2.?根據權利要求1所述的減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃，其特征在于所述的二氧化硅隔離膜層中，體積孔隙在5～20%之間，膜層厚度為：10～25納米。

3.?根據權利要求1所述的減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃，其特征在于所述的透明導電半導體氧化物膜層,包括氧化錫復合氧化鋅、或者氟摻雜氧化錫F:SnO₂，膜層厚度為：75～400納米。

4.?根據權利要求1所述的減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃，其特征在于所述的多孔二氧化硅膜層中，體積孔隙率在15-30%，膜層厚度為：80～180納米。

5.?一種如權利要求1所述的減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于單面鍍膜玻璃采用單面噴涂法，首先把潔凈玻璃片加熱至300～450℃,然后噴涂第一層含二氧化硅的噴涂液，形成二氧化硅隔離膜層；再在第一層上噴涂第二層含透明導電半導體氧化物的噴涂液，形成透明導電半導體氧化物膜層；接著在第二層上噴涂第三層含二氧化硅的噴涂液，利用噴涂液中液體的揮發量形成多孔二氧化硅膜層；最后把已鍍上述三層膜的玻璃片在610～650℃熱處理2.5～3.0分鐘。

6.?一種如權利要求1所述的減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于雙面鍍膜玻璃采用雙面浸漬提拉法，首先將潔凈玻璃片浸漬第一層即含二氧化硅的浸漬液，提拉后在150℃干燥，形成二氧化硅隔離層；然后在第一層上浸漬第二層即含透明導電半導體氧化物的浸漬液，提拉后在150℃干燥，形成透明導電半導體氧化物膜層；再在第二層上浸漬第三層即含二氧化硅的浸漬液，利用浸漬液中液體的揮發量形成多孔二氧化硅膜層，最后把已鍍上述三層膜的玻璃片在610～650℃熱處理2.5～3.0分鐘。

7.?根據權利要求5或6所述的減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，透明導電半導體氧化物的噴涂液或浸漬液采用氟摻雜氧化錫F:SnO₂，由SnCl₄·5H₂O、NH₄F、乙醇和水組成，酸做抑制劑,?乙醇和水為溶劑，換算成摩爾比例是：Sn:F=1:0.1～0.3，噴涂液或浸漬液中氟摻雜氧化錫F:SnO₂固含量濃度在0.5mol/l。

8.?根據權利要求5或6所述的減反射可見光與反射近紅外線雙功能鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，透明導電半導體氧化物的噴涂液或浸漬液采用氧化錫復合氧化鋅，由SnCl₄·5H₂O、Zn(CH₃COO)₂·2H₂O、乙醇和水組成，乙醇和水為溶劑，????噴涂液或浸漬液中氟摻雜氧化錫F:SnO₂固含量濃度在0.5mol/l，摩爾比Zn:Sn=2:1～2.5:1。