[發(fā)明專利]一種閉環(huán)正向?yàn)V波結(jié)合反向平滑的POS后處理方法

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110273046.7
• 申請(qǐng)日: 2011-09-15
• 公開（公告）號(hào): CN102997915A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周東靈;李文耀;尚克軍;張勤拓;扈光鋒;周祖洋;劉輝;謝仕民;邱宏波;劉峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京自動(dòng)化控制設(shè)備研究所
• 主分類號(hào): G01C21/16
• 分類號(hào): G01C21/16
• 代理公司: 核工業(yè)專利中心 11007
• 代理人: 李燁

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種適用于POS(Position?and?Orientation?System)的高精度位置姿態(tài)后處理方法。

背景技術(shù)

POS對(duì)整個(gè)任務(wù)過程中的位置和姿態(tài)精度都有極高的要求，特別是長時(shí)間工作以后，慣性導(dǎo)航誤差短時(shí)間內(nèi)增長較快，系統(tǒng)的誤差模型逐漸不精確，導(dǎo)致系統(tǒng)的濾波效果變差，通常采用的正向Kalman濾波與反向R-T-S(Rauch-Tung-Striebel)平滑相結(jié)合的后處理方法無法解決這一問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種高精度的位置姿態(tài)后處理方法，通過采用閉環(huán)實(shí)時(shí)反饋方法，設(shè)計(jì)合理的控制參數(shù)，有效抑制系統(tǒng)的誤差振蕩幅值，提高誤差模型的精確度，從而提高POS整個(gè)任務(wù)過程中的位置和姿態(tài)精度。

本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的：一種閉環(huán)正向?yàn)V波結(jié)合反向平滑的POS后處理方法，是對(duì)POS的位置姿態(tài)數(shù)據(jù)進(jìn)行后處理的方法，包括：卡爾曼濾波的步驟，和反向R-T-S平滑的步驟，其中，

在卡爾曼濾波的過程中，建立卡爾曼濾波模型的過程如下：

步驟1、使用二階系統(tǒng)模型對(duì)慣導(dǎo)系統(tǒng)進(jìn)行描述；

設(shè)計(jì)慣導(dǎo)系統(tǒng)水平通道成典型二階系統(tǒng)；

▿1′(s)=s2+K1s+(K2+1Re)g0---(1)]]>

式中：K₁、K₂是水平通道的兩個(gè)實(shí)時(shí)反饋控制系數(shù)；

設(shè)計(jì)慣導(dǎo)系統(tǒng)垂向通道成典型二階系統(tǒng)；

▿2′(s)=s2+C1s+(C2-2g0Re)---(2)]]>

式中：C₁、C₂是垂向通道的兩個(gè)實(shí)時(shí)反饋控制系數(shù)；

典型二階系統(tǒng)的特征方程為