[發明專利]用于掩模對準的對準信號采集系統及對準方法

有效

• 申請號: 201110272730.3
• 申請日: 2011-09-15
• 公開（公告）號: CN102998907A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 陳小娟;李運鋒;趙正棟;趙新
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司;上海微高精密機械工程有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種用于掩模對準的對準信號采集系統，用以實現工件臺相對于掩模臺位置的確定，其特征在于，包括：

照明單元，用于提供一激光脈沖；

掩模臺單元，所述掩模臺單元包括：掩模臺、掩模臺位置測量模塊及掩模臺控制模塊，所述掩模臺控制模塊根據所述掩模臺位置測量模塊所獲得的掩模臺位置數據移動位于所述掩模臺上的掩模標記；

投影物鏡，用以對所述掩模標記成像；

工件臺單元，所述工件臺單元包括：工件臺、工件臺位置測量模塊及工件臺控制模塊，所述工件臺控制模塊根據所述工件臺位置測量模塊所獲得的工件臺位置數據移動位于所述工件臺上的工件標記，并根據對準掃描參數進行水平及垂向運動；

光強采集單元，用于采集所述掩模標記的像掃描過所述工件臺標記時形成的二維空間像的光強信號；

對準操作單元，用于接收并處理來自所述掩模臺單元、工件臺單元及光強采集單元的信息以獲得一對準位置；所述對準操作單元處理所述信息采用以下對準信號擬合模型：

F(x,z)=A·f(z)·e[f(z)·x-x0AIX]2]]>

f(z)=[1+|z-z0AIZ|3]-13,]]>其中A是光強最大值，x0是水平向對準位置，z0是垂向對準位置，F是所述二維空間像的光強信號，AIX是所述二維空間像的像寬，AIZ是所述二維空間像的像高，x是水平向位置，z是垂向位置。

2.如權利要求1所述的對準信號采集系統，其特征在于，所述光強采集單元包括集成傳感器和光強采集板。

3.如權利要求2所述的對準信號采集系統，其特征在于，所述集成傳感器受所述激光脈沖激發后產生可見波長段的熒光。

4.如權利要求3所述的對準信號采集系統，其特征在于，所述集成傳感器包括光電探測器和放大環節，所述熒光經光電探測器轉化為一電信號，所述電信號經所述放大環節進行放大。

5.如權利要求3所述的對準信號采集系統，其特征在于，所述光強采集板根據所述對準操作單元的時序控制，采集所述集成傳感器探測到的光強信號。