[發明專利]一種太陽能級多晶硅脫金屬雜質的方法無效
| 申請號: | 201110268620.X | 申請日: | 2011-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN102424388A | 公開(公告)日: | 2012-04-25 |
| 發明(設計)人: | 孔繁敏;安利明;孫湘航;王新元;司繼良;徐民 | 申請(專利權)人: | 山西納克太陽能科技有限公司 |
| 主分類號: | C01B33/037 | 分類號: | C01B33/037 |
| 代理公司: | 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101 | 代理人: | 盧茂春 |
| 地址: | 030032 山西省*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 太陽 能級 多晶 金屬 雜質 方法 | ||
1.?一種太陽能級多晶硅脫金屬雜質的方法,其特征包括以下工藝步驟:
(1)選擇原材料為粒徑是5~100mm的金屬硅,金屬硅的純度為99%以上,其中金屬雜質含量為700ppm;
(2)開啟高真空感應爐的真空系統,依次開啟前級機械泵及高性能擴散泵使爐室內達到1.2×10-3~2.4×10-3Pa的高真空狀態;
(3)將占石墨坩堝容量1/10的金屬硅裝入位于高真空感應爐內的石墨坩堝中,開啟高頻感應電源將金屬硅熔化,所述的高頻感應電源功率最好為200~240KW;
(4)待此硅料熔化后使硅液溫度保持在1560~1600℃,開啟硅料連續送料裝置,投入剩余的金屬硅至爐內的石墨坩堝中進行熔化成為硅熔體;
(5)當硅熔體達到坩堝容積的3/4容積時,啟動定向拉棒裝置,通過定向拉制脫除硅中的金屬雜質,成為硅棒;
(6)將硅棒的尾部雜質聚集的部分切除,得到脫金屬雜質提純后的多晶硅。
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