[發明專利]一種埃博霉素B分子印跡聚合物的制備方法有效
| 申請號: | 201110258996.2 | 申請日: | 2011-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN102432753A | 公開(公告)日: | 2012-05-02 |
| 發明(設計)人: | 李慧;萬吉;龔國利;王學川 | 申請(專利權)人: | 陜西科技大學 |
| 主分類號: | C08F222/14 | 分類號: | C08F222/14;C08F220/06;C08F2/44;C08J9/26 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 王艾華 |
| 地址: | 710021*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 霉素 分子 印跡 聚合物 制備 方法 | ||
1.一種埃博霉素B分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于:
(5)將模版分子埃博霉素B,功能單體,交聯劑按照摩爾比1∶4∶20混合均勻,溶解于5ml體積比為4∶1的乙腈和甲醇溶液中,攪拌均勻,加入引發劑偶氮二異丁氰5.0mg;
(6)通氮排氧20~30min,氮氣保護條件下封管,45℃水浴中聚合12-16小時,再在60℃水浴中聚合12-16小時得到反應產物;
(7)將得到的產物聚合物破碎、研磨、過篩得到粒徑40~60μm的聚合物顆粒;
(8)將聚合物顆粒于體積比1∶9~3∶7乙酸和甲醇混合溶液中索氏萃取數次去除模板分子,冷凍干燥至恒重,得到埃博霉素B分子印跡聚合物。
2.根據權利要求1所述的埃博霉素B分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,所制備的埃博霉素B分子印跡聚合物為具有多孔結構形態的疏松聚合物。
3.根據權利要求1所述的埃博霉素B分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,去除模版分子埃博霉素B的方法為索氏萃取法。
4.根據權利要求1所述的埃博霉素B分子印跡聚合物的制備方法,其特征在于,索氏萃取5次以上,每次萃取時間為6~8小時,最后需用甲醇再次萃取2次以上。?
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