[發(fā)明專利]酸性氯化物蝕刻液的循環(huán)再生工藝方法及金屬銅回收系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110257975.9
• 申請日: 2011-09-02
• 公開（公告）號: CN102321908A
• 公開（公告）日: 2012-01-18
• 發(fā)明（設計）人: 章曉冬;劉江波
• 申請（專利權）人: 廣州市天承化工有限公司
• 主分類號: C25F7/02
• 分類號: C25F7/02;C25C1/12
• 代理公司: 廣州新諾專利商標事務所有限公司 44100
• 代理人: 張玲春

1.一種酸性氯化物蝕刻液的循環(huán)再生工藝方法，其特征在于其包括以下步驟：

(a)提供一酸性蝕刻槽，其內的藥劑包括氯化銅，鹽酸和少量添加劑；

(b)通過自動控制裝置在線監(jiān)測蝕刻槽內的銅離子濃度、酸濃度以及蝕刻液氧化還原電位；

(c)當酸性蝕刻液中一價銅離子濃度上升，蝕刻液的氧化還原電位降低，自動控制裝置通過耐酸泵浦將蝕刻液打入膜電解槽的浸流式陽極區(qū)；

(d)蝕刻液中一價銅離子被氧化為二價銅離子，蝕刻液因其氧化還原電位在電解槽的陽極區(qū)得以提升而被再生，自動控制裝置將再生后的蝕刻液通過泵浦或自然溢流的方式再打回蝕刻槽實現(xiàn)連續(xù)蝕刻金屬工作；

(e)在蝕刻液再生的同時，其中銅離子在電場的作用下透過離子膜進入陰極區(qū)，并沉積在不銹鋼或鈦材質的陰極上。

2.根據(jù)權利要求1所述的酸性氯化物蝕刻液的循環(huán)再生工藝方法，其特征在于：步驟(c)中，蝕刻液進入電解槽陽極區(qū)進行再生的同時，溶液中二價銅離子通過陽離子膜進入陰極區(qū)，其他陰離子則不能透過陽離子膜進入陰極區(qū)。

3.根據(jù)權利要求2所述的酸性氯化物蝕刻液的循環(huán)再生工藝方法，其特征在于：所述陰極區(qū)添加硫酸及硫酸銅，硫酸濃度控制在體積比為5～15％，銅離子濃度控制在20-80g/l；在直流電的作用下，銅離子通過離子交換膜進入陰極區(qū)并獲得電子而還原成銅原子沉積覆蓋在不銹鋼或者鈦材質的陰極上。

4.根據(jù)權利要求1所述的酸性氯化物蝕刻液的循環(huán)再生工藝方法，其特征在于：所述步驟(a)中，銅離子濃度為145-175g/l，酸度1.0-2.5N，氧化還原點位控制在510-550mv。

5.根據(jù)權利要求1所述的酸性氯化物蝕刻液的循環(huán)再生工藝方法，其特征在于：所述步驟(c)中，浸流式陽極區(qū)可以是多孔石墨材料或多層網(wǎng)狀以鈦為基材涂覆有釕或銥或其它的單一貴金屬氧化物涂層之材料，或者是二者混合的結構；陰極板采用不銹鋼或純鈦、鈦合金之金屬材料；陰陽極以隔離膜支架分隔，中間采用陽離子交換膜。

6.一種酸性氯化物蝕刻液的金屬銅回收系統(tǒng)，其特征在于其包括：

酸性蝕刻槽，其內的藥劑包括氯化銅，鹽酸和少量添加劑；

膜電解槽，通過泵浦和管道連接到上述酸性蝕刻槽，該膜電解槽內分陰極區(qū)和陽極區(qū)，陰陽極以隔離膜支架分隔，所述陽極區(qū)是采用浸流式陽極；

自動控制裝置，連接到上述膜電解槽，用于將蝕刻液由泵浦從蝕刻槽打入膜電解槽的陽極區(qū)；并將電解再生處理后的蝕刻液由陽極區(qū)用泵浦或自然溢流的方式打回至蝕刻工作槽繼續(xù)蝕刻金屬作業(yè)。

7.根據(jù)權利要求6所述的酸性氯化物蝕刻液的金屬銅回收系統(tǒng)，其特征在于：所述浸流式陽極區(qū)可以是多孔石墨材料或多層網(wǎng)狀以鈦為基材涂覆有釕或銥或其它的單一貴金屬氧化物涂層之材料，或者是二者混合的結構。

8.根據(jù)權利要求6所述的酸性氯化物蝕刻液的金屬銅回收系統(tǒng)，其特征在于：所述陰極區(qū)采用不銹鋼或純鈦、鈦合金之金屬材料制作的陰極板。

9.根據(jù)權利要求6所述的酸性氯化物蝕刻液的金屬銅回收系統(tǒng)，其特征在于：所述隔離膜為全氟化高分子聚合物磺酸鹽陽離子交換劑材料的陽離子交換膜。