[發明專利]光學補償膜及其制造方法

無效

• 申請號: 201110252268.0
• 申請日: 2011-08-30
• 公開（公告）號: CN102305956A
• 公開（公告）日: 2012-01-04
• 發明（設計）人: 鄭孟嘉;吳龍海;郭真寬
• 申請（專利權）人: 明基材料有限公司;明基材料股份有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/13363;G02F1/1337
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種光學補償膜，其特征在于包含：

基材；以及

液晶層，配置于該基材上，該液晶層具有第一厚度以及第二厚度以分別定義第一區域以及第二區域，其中該第二區域鄰接該第一區域，且該第二厚度大于該第一厚度。

2.如權利要求1所述的光學補償膜，其特征在于該基材具有表面微結構，且該表面微結構位于該基材鄰接該液晶層的一側。

3.如權利要求2所述的光學補償膜，其特征在于該表面微結構包含第一微結構以及第二微結構，該第一微結構以及該第二微結構分別位于該第一區域以及該第二區域下方，且該第一微結構的厚度大于該第二微結構的厚度。

4.如權利要求2所述的光學補償膜，其特征在于該表面微結構為紫外光可硬化樹脂所制成。

5.如權利要求1所述的光學補償膜，其特征在于包含配向膜，該配向膜位于該基材與該液晶層之間，且該配向膜鄰接該液晶層。

6.如權利要求1所述的光學補償膜，其特征在于該液晶層具有第三厚度以定義第三區域，該第三區域鄰接該第二區域，且該第三厚度大于該第二厚度。

7.如權利要求6所述的光學補償膜，其特征在于該基材為雙折射性基材，且該第一厚度為1.6μm至1.7μm之間，第二厚度為1.7μm至1.8μm之間，該第三厚度為2.0μm至2.1μm之間。

8.如權利要求6所述的光學補償膜，其特征在于該基材為光學等向性基材，且該第一厚度為2.3μm至2.4μm之間，第二厚度為2.4μm至2.5μm之間，且該第三厚度為2.7μm至2.8μm之間。

9.一種光學補償膜，其特征在于包含：

基材；

微結構層，形成于該基材的表面上，該微結構層包含復數個第一微結構以及復數個第二微結構，該復數個第一微結構以及該復數個第二微結構規則排列于該基材上，且每一該第一微結構鄰接至少一該第二微結構，其中每一該第一微結構的厚度大于每一該第二微結構的厚度；以及

液晶層，覆蓋該微結構層，其中該液晶層在該復數個第一微結構上方以及該復數個第二微結構上方分別具有第一厚度以及第二厚度，且該第一厚度小于該第二厚度。

10.一種制造光學補償膜的方法，其特征在于包含：

形成紫外光可硬化樹脂層于基材上；

以物件印壓該紫外光可硬化樹脂層，以形成微結構層，其中該微結構層具有第一高度及第二高度，且該第一高度不同于該第二高度；

以紫外光照射該微結構層，使該微結構層硬化；以及

形成液晶層于硬化的該微結構層上方。