[發明專利]一種在高溫條件下抗CMAS侵蝕的熱障涂層及其制備工藝無效
| 申請號: | 201110252206.X | 申請日: | 2011-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN102371734A | 公開(公告)日: | 2012-03-14 |
| 發明(設計)人: | 張東博 | 申請(專利權)人: | 華北電力大學 |
| 主分類號: | B32B18/00 | 分類號: | B32B18/00;B32B15/04;C23C14/30;C23C14/08;C23C4/12;C23C4/04 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高溫 條件下 cmas 侵蝕 熱障 涂層 及其 制備 工藝 | ||
1.一種在高溫條件下抗CMAS侵蝕的熱障涂層,其特征在于,為雙層結構,包括由Ni-CO-Cr-Al-Y構成的粘結層,厚度為60-90μm,以及由Li2O-YSZ系構成的陶瓷頂層,厚度為80-100μm;其中,由Li2O-YSZ系構成的陶瓷頂層的具體成分為2-8wt.%的Li2O和92-98wt.%的YSZ。
2.一種在高溫條件下抗CMAS侵蝕的熱障涂層的制備工藝,其特征在于,包括以下步驟:
(11)將Li2CO3摻雜到YSZ中,攪拌均勻后,在1350℃和60MPa熱等靜壓條件下,保持4個小時,形成電子束物理氣相沉積所需的料棒,在加熱的條件下,Li2CO3分解成Li2O,且使得Li2O和YSZ的重量百分比分別為2-8wt.%和92-98wt.%;
(12)采用電子束物理氣相沉積方法,在物件表面沉積由Ni-CO-Cr-Al-Y構成的粘結層,厚度為60-90μm;將步驟(11)中制得的料棒放入電子束物理氣相沉積真空室中,將真空室的真空度控制在3×10-2Pa以內,以0.4-0.6μm/min.的速率,在沉積了Ni-CO-Cr-Al-Y粘結層的物件表面進行沉積;由于粘結層和陶瓷頂層之間的結合強度很低,為了增加結合強度,沉積時基板溫度控制在800-900℃,涂層厚度為80-100μm;冷卻后進行熱處理,其處理工藝為:升溫速率為3℃/min.,1050℃下保溫2小時,隨爐冷卻之后,即可制成所需要的新型高溫抗CMAS侵蝕的熱障涂層;
或者采用如下步驟:
(21)將Li2CO3摻雜到粒度為60-260目的YSZ粉體中,經過攪拌均勻后,形成等離子噴涂所需的陶瓷頂層粉體,且使得Li2CO3加熱分解后得到的Li2O和YSZ的重量百分比分別為2-8wt.%和92-98wt.%;
(22)采用等離子噴涂方法,利用Ni-Co-Cr-Al-Y粉在物件表面制備粘結層,在制備好粘結層的物件上,制備陶瓷頂層;對步驟(21)中制得的陶瓷頂層粉體直接采用等離子噴涂,制備成厚度為80-100μm的新型高溫抗CMAS侵蝕的熱障涂層,其具體的工藝參數為:電壓為50-60V,電流為500-600A,氬氣流量為50-60L/min,氫氣流量為15-25L/min,轉臺轉速為5-15轉/min,噴槍轉速為35-45轉/min,腔內壓力為70乇,送粉速度為20-40g/min。
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