[發(fā)明專利]一種焦爐碳化室涂層材料及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110248467.4 | 申請日: | 2011-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN102417359A | 公開(公告)日: | 2012-04-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 韓強;范盤華;許行強 | 申請(專利權)人: | 江蘇拜富科技有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/66 | 分類號: | C04B35/66 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責任公司 32218 | 代理人: | 徐冬濤 |
| 地址: | 214221 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 焦爐 碳化 涂層 材料 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明屬于化工技術領域,具體涉及一種焦爐碳化室涂層材料及其制備方法。
背景技術
鋼鐵行業(yè)的煉焦爐爐內(nèi)壁是由硅磚砌筑而成。在煉焦過程中,由于硅磚的氣孔率較高,而且磚與磚連接處有縫隙,在氣孔和縫隙處容易吸附石墨,于是在煉焦過程中碳長期沉積在爐墻上而形成堅固的粘附層。在氣孔、縫隙及硅磚的破損處沉積石墨層生長速度會增大,形成大塊的結碳層,導致推焦困難。在外力作用下強行推焦,易使新的耐火硅磚破損,從而形成惡性循環(huán),最終造成焦爐被迫停產(chǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述不足之處,提供一種焦爐碳化室涂層材料及其制備方法。
應用在焦爐碳化室的涂層材料不同于一般的陶瓷釉料,發(fā)明人發(fā)現(xiàn)該涂層材料必須具備以下特性:1、始融溫度(始熔點)須高于煉焦時工作溫度,以便形成釉,并且在正常煉焦的溫度下要固化,形成高溫下耐磨的釉面層;2、致密光滑;3、涂層材料與焦爐硅磚有良好的熱膨脹匹配性能;4、涂料與硅磚熱震穩(wěn)定性要好。
根據(jù)上述要求,發(fā)明人經(jīng)大量實驗研究得到焦爐碳化室的涂層材料,包括如下組分制成:SiO2:50%~65%,Al2O3:20%~30%,ZrO2:2%~10%,BaO:1%~8%,Li2O:1%~8%,F(xiàn)e2O3:0.05%~0.5%,TiO2:0.05%~0.5%,K2O:1%~5%,Na2O:1%~5%,B2O3:1%~5%。以本發(fā)明涂層材料總質(zhì)量含量為100%計,該配方中還可以加入2%~8%的ZnO和/或1~5%的MgO。
上述組方優(yōu)選包括如下組分制成:SiO2:55%~60%,Al2O3:20%~25%,ZrO2:3%~7%,BaO:2%~5%,Li2O:3%~6%,F(xiàn)e2O3:0.1%~0.2%,TiO2:0.1%~0.2%,K2O:1%~3%,Na2O:1%~2%,B2O3:1%~2%。以本發(fā)明涂層材料總質(zhì)量含量為100%計,該優(yōu)選配方中還可以加入3%~5%的ZnO和/或1~4%的MgO。
上述涂層材料的制備方法包括如下步驟:
粉體制備方法1:將各種原料混合后球磨;優(yōu)選球磨至粉體過100~500目篩,最優(yōu)選過200~300目篩。該方法中球磨采用的料球比為0.5~3∶1~3,優(yōu)選2∶1。
上述涂層材料還可以按照以下步驟制成熔塊料的粉體,制備方法包括以下步驟:
將各種原料攪拌混合均勻,然后將混合好的粉料加熱至溫度達到1400~1600℃(優(yōu)選溫度達到1550℃)熔化,再保溫1~3小時得到熱的玻璃液,然后將熱的玻璃液水淬,將水淬后的熔塊外加水球磨得到釉漿,當釉漿細度磨至過250目篩,余0.2~0.5%時,將漿體干燥,干燥后的料結成塊料,再將塊料磨細。優(yōu)選磨細粉體至過100~500目篩,最優(yōu)選過200~300目篩。該方法中優(yōu)選將水淬后的熔塊外加原料總重量40~90%水球磨得到釉漿,最優(yōu)選外加原料總重量70%的水。干燥溫度優(yōu)選100~120℃,最優(yōu)選110℃。干燥時間為16~30小時,優(yōu)選為24小時。該方法可節(jié)省焦爐時間,適應快速成釉的要求。
上述涂層材料在使用時可制成漿體,可以按照以下步驟制備:將制備好的涂層材料粉體加水攪拌均勻,放置1~3小時后,再次攪拌均勻,過篩。
優(yōu)選方式為:將制備好的涂料粉體加粉體重量55~65%的水攪拌均勻,放置1~3小時后,再次攪拌均勻至漿體的比重1.6±0.5,過120目篩。該漿料有利于形成良好的釉面質(zhì)量。使用時可用噴槍進行噴涂。漿體的比重也可以根據(jù)現(xiàn)場噴涂的設備進行調(diào)整,主要是控制加水量,在噴涂壓力允許的情況下,漿體的比重可適當放大。
為了引進涂層材料中的各種化學成分,可選用鋰輝石、碳酸鋰、鋰云母、硅酸鋯、氧化鋅、碳酸鋇、硼砂、長石、高嶺土、石英、氧化鋁粉、硅微粉等原料作為制釉的原料。
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