[發明專利]旋轉涂布制程的成膜裝置

無效

• 申請號: 201110227135.8
• 申請日: 2011-08-09
• 公開（公告）號: CN102921603A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 李志鴻;郭子豪
• 申請（專利權）人: 錸德科技股份有限公司
• 主分類號: B05C9/14
• 分類號: B05C9/14;B05C13/02
• 代理公司: 廈門市新華專利商標代理有限公司 35203
• 代理人: 朱凌

技術領域

本發明涉及一種旋轉涂布(Spin?coating)制程裝置，使用在基材保護層的旋轉涂布上，尤其是指一種可使涂布材料達到較佳的均勻度(uniformity)，進而提升產品良率的旋轉涂布制程的成膜裝置。

背景技術

隨著信息時代的需求，利用光來記錄、再生情報的光學記錄媒體，例如光盤片、盤片(CD)或DVD等，已普遍被應用，且伴隨著光學記錄媒體朝向高儲存密度、小體積、高速記錄及再生及制作成本低的趨勢下，光學記憶媒體的需求更是與日俱增，光盤的制作技術也日益精進。

在制作光盤的旋轉涂布制程中，基材被旋轉器(Spinner)帶動旋轉，而噴灑在基材上的涂布材料將因離心力(Centrifugalforce)的關系而往基材的外圍移動，最后形成一薄膜；而薄膜的厚度，除了與材料本身的黏度(Viscosity)有關以外，也與旋轉器的轉速成比例的關系。

一般而言，旋轉器轉動的速度越快，薄膜的厚度將越薄，涂布材料的黏度，旋轉器的轉速及涂布的方法，決定了薄膜的厚度及均勻度，所以當高黏滯性涂布材料使用于傳統旋轉涂布方法涂布于基材上時，涂布材料的基礎特性(黏著性及伸縮性)和表面張力會造成涂布材料凸起于基材涂布結束部份(邊緣處)，形成涂布薄膜厚度不均的問題。

其主因是在光盤被旋轉涂覆的生產線中，數以百計或千計的光盤一個接一個被旋轉涂覆，但制程中是需要一基礎溫度才有利于涂布材料于旋轉時在基材上的涂布(擴散)，但是制成光盤的基材通常是熱絕緣體，所以當基材被放置在旋轉平臺上以供旋轉的時候，整體上基材的溫度是不均勻的；通常是與旋轉平臺相箝制(靠近圓心)的部位溫度較高，而在靠近邊緣的部位則溫度較低。所以涂布材料在靠近圓心的部位會較不黏稠（即黏度較低），而在靠近邊緣的部位會較黏稠（即黏度較高）。

由于前述的現象，再加上高速旋轉加工后，常使盤片的邊緣因堆積作用產生隆起的不良現象結果，均勻度不佳則易導致讀取和寫入的質量不佳，間接影響了產品的良率，若以二次加工削去凸出隆起的部位，又會增加制造設備的成本且會增加制造過程時間，而且加工時易產生碎裂、破裂和折彎的問題會降低產品良率。因此如何改善上述習知技術的缺失，乃為產業相關業者需正視的重要課題。

有鑒于此，本發明人針對上述旋轉涂布制程的成膜裝置結構設計上未臻完善所導致的諸多缺失及不便，而深入構思，且積極研究改良試做而開發設計出本案。

發明內容

本發明的目的在于提供一種旋轉涂布制程的成膜裝置，以解決光盤邊緣因涂布材料堆積而產生隆起的不良現象。

為了達成上述目的，本發明的解決方案是：

一種旋轉涂布制程的成膜裝置，其包含：

一旋轉裝置，具有至少一旋轉平臺，一基材置放于旋轉平臺上，涂料披覆于該基材的表面；一加熱裝置，設置于該旋轉平臺上方。

上述加熱裝置包含有：至少一加熱體結構，該加熱體結構對基材的邊緣部份提供一熱能；一偵測單元，該偵測單元偵測基材的一溫度。

上述加熱體結構還包含有一紅外線熱源。

上述加熱體結構還包含有一熱風輸送口。

上述偵測單元為一熱像儀。

采用上述結構后，本發明旋轉涂布制程的成膜裝置具有一旋轉平臺來承載一基材，在此基材所欲使用的一涂料施以旋轉涂布制程時，使用熱源體來提升基材邊緣上涂料的溫度，使涂料成膜后可消除或有效減少涂布結束部位所產生的隆起現象，如此涂料可均勻地涂布在基材上成膜，進而減少成品的誤差并提高生產良率。????

附圖說明

圖1為本發明旋轉涂布制程的成膜狀態示意圖；

圖2為本發明所揭露的旋轉涂布制程的成膜裝置立體示意圖(1)；

圖3為本發明所揭露的旋轉涂布制程的成膜裝置立體示意圖(2)；

圖4為本發明所揭露的旋轉涂布制程的成膜裝置第一實施例剖面示意圖(1)；

圖5為本發明所揭露的旋轉涂布制程的成膜裝置第一實施例剖面示意圖(2)；

圖6為本發明所揭露的旋轉涂布制程的成膜裝置第二實施例剖面示意圖。

主要元件符號說明

10基材?????????20涂料?????????21隆起部

30旋轉平臺?????31固定座???????32屏蔽結構

40偵測單元?????41底座?????????42軸體

43懸臂結構?????44紅外線熱源???45熱風輸送口。

具體實施方式