[發明專利]雙折射圖案的制作材料

無效

• 申請號: 201110220824.6
• 申請日: 2011-07-28
• 公開（公告）號: CN102346272A
• 公開（公告）日: 2012-02-08
• 發明（設計）人: 澤登修;伊藤英明
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B1/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 于輝

1.雙折射圖案的制作材料，其用于制作圖案化的雙折射產品的方法中，所述方法包括光學各向異性層的圖案化曝光的步驟，以及在所述曝光后將所述層加熱至50℃或更高但不高于400℃的步驟，所述雙折射圖案的制作材料依次包含所述光學各向異性層、支撐體和層合膜。

2.如權利要求1所述的雙折射圖案的制作材料，其中所述層合膜至少包含層合基材和粘合層。

3.如權利要求2所述的雙折射圖案的制作材料，其中所述粘合層的平均膜厚度是1.0微米或更高。

4.如權利要求1-3中的任一項所述的雙折射圖案的制作材料，其中所述層合膜的與粘附到所述支撐體的表面相對的表面的“粗糙度曲線的最大剖面高度Rt”是1.0微米或更高。

5.如權利要求1-4中的任一項所述的雙折射圖案的制作材料，其包含在所述支撐體和所述光學各向異性層之間的反射層。

6.如權利要求1-5中的任一項所述的雙折射圖案的制作材料，其中所述光學各向異性層包含未反應的反應性基團。

7.如權利要求1-6中的任一項所述的雙折射圖案的制作材料，其中所述圖案化的光學各向異性層是由包含含有至少一個反應性基團的液晶化合物的組合物形成的層。

8.如權利要求7所述的雙折射圖案的制作材料，其中所述液晶化合物具有聚合條件不同的兩種或更多種反應性基團。

9.如權利要求8所述的雙折射圖案的制作材料，其中所述液晶化合物含有自由基型反應性基團和陽離子型反應性基團。

10.如權利要求9所述的雙折射圖案的制作材料，其中所述自由基型反應性基團是丙烯酸基團和/或甲基丙烯酸基團，并且所述陽離子型反應性基團是乙烯基醚基團、氧雜環丁烷基基團和/或環氧基基團。

11.制作圖案化的雙折射產品的方法，其中使用如權利要求1-10中的任一項所述的雙折射圖案的制作材料。

12.制作圖案化的雙折射產品的方法，其包括以下步驟(1)-(4)：

(1)在其上粘附有層合膜的支撐體的表面上形成光學各向異性層，所述表面與粘附所述層合膜的表面相對；

(2)對所述光學各向異性層進行圖案化曝光；

(3)在所述圖案化曝光后將所述層加熱至50℃或更高但不高于400℃；和

(4)剝離所述層合膜。