[發(fā)明專利]一種六氟化硫生產(chǎn)純化的方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110215105.5
• 申請日: 2011-07-29
• 公開（公告）號: CN102328913A
• 公開（公告）日: 2012-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李中元
• 申請（專利權(quán)）人: 天津市泰亨氣體有限公司
• 主分類號: C01B17/45
• 分類號: C01B17/45
• 代理公司: 天津市杰盈專利代理有限公司 12207
• 代理人: 朱紅星

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種化工產(chǎn)品，特別是一種六氟化硫生產(chǎn)純化的方法，適合于生產(chǎn)六氟化硫。

背景技術(shù)

本品是已知化學(xué)安定性最好的物質(zhì)之一，其惰性與氮?dú)庀嗨?。它具有極好的熱穩(wěn)定性，純態(tài)下即使在500℃以上也不分解。六氟化硫具有卓越的電絕緣性和滅弧特性，相同條件下，其絕緣能力為空氣、氮?dú)獾?.5倍以上，滅弧能力為空氣的100倍。六氟化硫的熔點(diǎn)為-50.8℃，可作為-45～0℃溫度范圍內(nèi)的特殊制冷劑，又因其耐熱性好，是一種穩(wěn)定的高溫?zé)彷d體。六氟化硫因上述及其它優(yōu)良特性，近年來被廣泛用于電力、電子、電氣行業(yè)和激光、醫(yī)療、氣象、制冷、消防、化工、軍事、宇航、有色冶金、物理研究等。

目前國內(nèi)外普遍采用的氟與硫反應(yīng)工藝合成的粗品六氟化硫中不可避免地會含有HF、OF2(由于H2O引起)、ClO3F(由于原料含有氯化物雜質(zhì))、S2F2、SF4、S2F10、S2F10O、SF5OCF3、SOF2、SOF4、SO2F2、CnF2n+2、CnF2n、SiF4、ClO3F、CO2、CO、N2O、THC、O2、N2等雜質(zhì)，必須先將這些雜質(zhì)予以除去才能符合使用要求。

該流程由反應(yīng)合成、熱解、堿洗、吸附、精餾、汽化及雜質(zhì)循環(huán)處理等單元構(gòu)成。首先氟氣與熔融硫在反應(yīng)器3中進(jìn)行反應(yīng)合成六氟化硫粗品；然后，六氟化硫粗品經(jīng)過400℃的熱解塔4，高溫分解S2F10、S2F10O；第三步，經(jīng)過洗滌塔5，去除酸性和可水解雜質(zhì)如HF、SF4等；第四步，進(jìn)入吸附干燥塔6，去除水分及部分低氟硫化合物；第五步，利用兩級加壓精餾塔8、9，去除輕組分雜質(zhì)CF4、THC、O2、N2及重雜質(zhì)SO2F2、CO2、N2O、ClO3F、SF5OCF3等，從二級精餾塔頂?shù)眠_(dá)到純度要求至少99.8％含量的六氟化硫產(chǎn)品；第六步，二級精餾塔釜?dú)堃航?jīng)過汽化器汽化后經(jīng)過500～600℃熱處理器或直接返回到氟氣加料管與氟氣一起作為原料進(jìn)入合成反應(yīng)器參與反應(yīng)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的問題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，原有技術(shù)是不能得到純的六氟化硫，采用本法會大大提高生產(chǎn)效率，本方法提供了一種設(shè)備及工藝。

一種六氟化硫生產(chǎn)純化的方法，其特征在于它是由反應(yīng)合成、熱解、堿洗、吸附、精餾、汽化及雜質(zhì)循環(huán)處理單元構(gòu)成；首先氟氣與熔融硫在反應(yīng)器(3)中進(jìn)行反應(yīng)合成六氟化硫粗品；然后，六氟化硫粗品經(jīng)過400℃的熱解塔(4)，高溫分解S2F10、S2F10O；第三步，經(jīng)過洗滌塔(5)，去除酸性和可水解雜質(zhì)如HF、SF4；第四步，進(jìn)入吸附干燥塔(6)，去除水分及部分低氟硫化合物；第五步，利用兩級加壓精餾塔(8)、(9)，去除輕組分雜質(zhì)CF4、THC、O2、N2及重雜質(zhì)SO2F2、CO2、N2O、ClO3F、SF5OCF3，從二級精餾塔頂?shù)眠_(dá)到純度要求至少99.8％含量的六氟化硫產(chǎn)品；第六步，二級精餾塔釜?dú)堃航?jīng)過汽化器汽化后經(jīng)過500～600℃熱處理器或直接返回到氟氣加料管與氟氣一起作為原料進(jìn)入合成反應(yīng)器參與反應(yīng)。

本發(fā)明公開了一種六氟化硫生產(chǎn)純化的方法，目前國內(nèi)外普遍采用的氟與硫反應(yīng)工藝合成的粗品六氟化硫中不可避免地會含有HF、OF2(由于H2O引起)、ClO3F(由于原料含有氯化物雜質(zhì))、S2F2、SF4、S2F10、S2F10O、SF5OCF3、SOF2、SOF4、SO2F2、CnF2n+2、CnF2n、SiF4、ClO3F、CO2、CO、N2O、THC、O2、N2等雜質(zhì)，必須先將這些雜質(zhì)予以除去才能符合使用要求。

該流程由反應(yīng)合成、熱解、堿洗、吸附、精餾、汽化及雜質(zhì)循環(huán)處理等單元構(gòu)成。首先氟氣與熔融硫在反應(yīng)器3中進(jìn)行反應(yīng)合成六氟化硫粗品；然后，六氟化硫粗品經(jīng)過400℃的熱解塔4，高溫分解S2F10、S2F10O；第三步，經(jīng)過洗滌塔5，去除酸性和可水解雜質(zhì)如HF、SF4等；第四步，進(jìn)入吸附干燥塔6，去除水分及部分低氟硫化合物；第五步，利用兩級加壓精餾塔8、9，去除輕組分雜質(zhì)CF4、THC、O2、N2及重雜質(zhì)SO2F2、CO2、N2O、ClO3F、SF5OCF3等，從二級精餾塔頂?shù)眠_(dá)到純度要求至少99.8％含量的六氟化硫產(chǎn)品；第六步，二級精餾塔釜?dú)堃航?jīng)過汽化器汽化后經(jīng)過500～600℃熱處理器或直接返回到氟氣加料管與氟氣一起作為原料進(jìn)入合成反應(yīng)器參與反應(yīng)。