[發明專利]硅片超聲清洗裝置

有效

• 申請號: 201110208933.6
• 申請日: 2011-07-25
• 公開（公告）號: CN102896106A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 鐘偉;凌永峰;王雪芹;黨鵬
• 申請（專利權）人: 浙江思博恩新材料科技有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 逯長明

技術領域

本發明涉及半導體器件制作工藝技術領域，更具體地說，涉及一種硅片超聲清洗裝置。

背景技術

硅片是太陽能電池的載體，硅片質量的好壞直接決定了太陽能電池轉換效率的高低，而影響硅片質量好壞的一個重要因素是硅片表面的潔凈度，因此，為了使得太陽能電池具有較高的轉換效率，首先需要保證硅片表面具有較高的潔凈度。

為了使硅片表面具有較高的潔凈度，需要對硅片進行清洗，其中，清洗過程包括前期的化學藥液清洗和后期的純水超聲清洗。在對硅片進行前期化學藥液清洗后，硅片表面會殘留酸、堿或表面活性劑類的有機物等，這些殘留在硅片表面的物質會在后續的制絨工藝中產生不良影響，如色斑、發白或未制絨等；另外，若硅片表面有金屬離子或顆粒的殘留，將會影響太陽能電池的轉換效率。因此，后期需要用大量的純水對硅片進行超聲清洗，以除去硅片表面殘留的顆粒、金屬以及有機物等。

現有的對硅片進行純水超聲清洗的裝置的結構示意圖如圖1所示，圖中示出了超聲清洗裝置的三個漂洗槽體④、⑤、⑥；這三個漂洗槽體④、⑤、⑥分別連接獨立的進水閥門①、②、③，進水閥門①、②、③均連通純水進水總管⑩；且這三個漂洗槽體④、⑤、⑥分別設置有單級溢流區⑦、⑧、⑨，圖中箭頭所指方向為槽體中純水的溢流方向；對應漂洗槽體④、⑤、⑥上還分別設置有加熱控制開關及溫控儀A、C、E；除此之外，漂洗槽體④、⑤、⑥上還分別設置有超聲控制開關B、D、F。

當槽體內有硅片需要清洗時，需要手動旋轉對應槽體的進水閥門，并通過旋轉對應槽體的進水閥門至45°角的位置以控制進水流量，槽體內的純水達到一定容量時會從相應的溢流區溢出；清洗過程中還需要手動打開對應槽體的超聲控制開關、加熱控制開關及溫控儀。當對硅片清洗達到規定時間(如5min)后，需將硅片移入第二漂洗槽體，此時需要打開第二漂洗槽體上對應的進水閥門、超聲控制開關，同時關閉第一漂洗槽體上對應的進水閥門、超聲控制開關，在第二漂洗槽體內對硅片清洗達到規定時間后，再將其移入第三漂洗槽體進行清洗。

由于硅片都是批量進行生產，因此，對硅片進行超聲清洗時也是多個硅片同時進行。但是，由于現有的超聲清洗裝置中每個槽體的進水閥門和溢流區均是獨立的，因此，當三個槽體內均有硅片需要進行清洗時，則需要同時打開所述三個槽體對應的進水閥門，且此時純水從三個槽體對應的溢流區排出，這就使得純水的利用率不高，造成大量純水的浪費。

發明內容

有鑒于此，本發明提供了一種硅片超聲清洗裝置，該裝置可提高純水的利用率，避免大量純水的浪費。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種硅片超聲清洗裝置，該裝置包括：

多個依次排列的漂洗槽體；

設置在每一個漂洗槽體上的超聲裝置；

與所述多個依次排列的漂洗槽體中的一個槽體相連的純水進水總管；

設置在所述純水進水總管上的純水開關電磁閥；

其中，所述多個漂洗槽體中相鄰的漂洗槽體相互連通。

優選的，上述裝置中，所述超聲裝置包括：超聲控制開關和超聲計時器。

優選的，上述裝置中，多個超聲裝置中的多個超聲控制開關相互并聯；

并聯后的多個超聲控制開關與所述純水開關電磁閥串聯。

優選的，上述裝置還包括：

設置在所述純水進水總管上、用以調節純水進水流量的流量調節控制器。

優選的，上述裝置中，與所述純水進水總管相連的漂洗槽體為所述多個依次排列的漂洗槽體中的一端的漂洗槽體，且與所述純水進水總管相連的漂洗槽體為第一漂洗槽體。

優選的，上述裝置中，相鄰的漂洗槽體通過槽體側壁的通水孔相互連通，所述通水孔高度從第一漂洗槽體起呈梯度式下降。

優選的，上述裝置中，所述漂洗槽體的個數為3。

優選的，上述裝置還包括溫度控制裝置。

優選的，上述裝置中，所述溫度控制裝置包括：設置在每一個漂洗槽體上的加熱控制開關及溫控儀。

優選的，上述裝置中，所述溫度控制裝置具體為：設置在純水進水總管上的恒溫熱源。