[發(fā)明專利]紫外探測器的像素結(jié)構(gòu)、紫外探測器系統(tǒng)及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110206933.2 | 申請日: | 2011-07-22 |
| 公開(公告)號: | CN102891150A | 公開(公告)日: | 2013-01-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 殷華湘;陳大鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146;H01L31/0376;H01L31/101 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 逯長明;王寶筠 |
| 地址: | 100029 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 紫外 探測器 像素 結(jié)構(gòu) 系統(tǒng) 及其 制造 方法 | ||
1.一種紫外探測器的單位像素結(jié)構(gòu),包括紫外探測器和與紫外探測器連接的讀出電路,其特征在于,所述讀出電路由一個或多個TFT器件組成,所述讀出電路的TFT器件的第一有源層以及所述紫外探測器的光電探測層為非晶態(tài)氧化物半導(dǎo)體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單位像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述紫外探測器為MSM型或TFT型。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單位像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述單位像素結(jié)構(gòu)包括:
襯底,所述襯底具有第一區(qū)域和第二區(qū)域;
第一區(qū)域上的一個或多個TFT器件,包括:第一柵電極,第一柵電極上的第一柵絕緣層,第一柵絕緣層上的第一有源層,第一柵電極兩側(cè)的第一有源層上的第一源漏電極;
第二區(qū)域上的MSM型紫外探測器,包括:光電探測層,光電探測層上的第二電極;以及
覆蓋第一源漏電極、第一有源層、光電探測層和第二電極的鈍化層,第一有源層的鈍化層之上的光屏蔽層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的單位像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述單位像素結(jié)構(gòu)包括:
襯底,所述襯底具有第一區(qū)域和第二區(qū)域;
第一區(qū)域上的一個或多個TFT器件,包括:第一柵電極,第一柵電極上的第一柵絕緣層,第一柵絕緣層上的第一有源層,第一柵電極兩側(cè)的第一有源層上的第一源漏電極;
第二區(qū)域上的TFT型紫外探測器,包括:第二柵電極,第二柵電極上的第二柵絕緣層,第二柵絕緣層上的光電探測層,第二柵電極兩側(cè)的光電探測層上的第二源漏電極;以及,
覆蓋第一源漏電極、第一有源層、光電探測層和第二源漏電極的鈍化層,第一有源層的鈍化層之上的光屏蔽層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的單位像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述讀出電路為PPS、APS或DPS。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的像素結(jié)構(gòu),其特征在于,所述光電探測層或第一有源層從包含以下元素的組中選擇形成:InGaZnO、InZnO、HfInZnO、TaInZnO、ZrInZnO、YInZnO、AlInZnO、SnInZnO、TiO2、In2O3、ZTO、ITO、ZnO或SnOx。
7.一種紫外探測器的單位像素結(jié)構(gòu)的制造方法,其特征在于,包括:
提供襯底,所述襯底具有第一區(qū)域和第二區(qū)域;
在所述第一區(qū)域的襯底上形成第一柵電極;
覆蓋所述第一柵電極,在第一柵電極和第二區(qū)域上形成第一柵絕緣層;
在所述第一區(qū)域的第一柵絕緣層上形成第一有源層,以及在所述第二區(qū)域的第一柵絕緣層上形成光電探測層,其中,所述第一有源層和光電探測層為非晶態(tài)氧化物半導(dǎo)體;
在所述第一柵電極兩側(cè)的第一有源層上形成第一源漏電極,以及在光電探測層上形成第二電極;
覆蓋所述第一源漏電極、第二電極及第一有源層、光電探測層形成鈍化層;
在所述第一區(qū)域的鈍化層上形成光屏蔽層;
其中,在第一區(qū)域上形成了由TFT器件組成的讀出電路、在第二區(qū)域上形成了MSM型的紫外探測器,所述讀出電路與紫外探測器電連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法,其特征在于,所述第一有源層或光電探測層從包含以下元素的組中選擇形成:InGaZnO、InZnO、HfInZnO、TaInZnO、ZrInZnO、YInZnO、AlInZnO、SnInZnO、TiO2、In2O3、ZTO、ITO、ZnO或SnOx。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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