[發明專利]電沉積線型工具有效
| 申請號： | 201110206911.6 | 申請日： | 2009-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN102267107A | 公開（公告）日： | 2011-12-07 |
| 發明（設計）人： | 風早克夫;松本寧;福西利夫;辻本宗裕;小川秀樹;山中正明;福島健二 | 申請（專利權）人： | 聯合材料公司 |
| 主分類號： | B24D11/00 | 分類號： | B24D11/00;B24D18/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 蔣亭 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 沉積 線型 工具 | ||
1.一種電沉積線型工具，其具備：
線狀體(4)、和
在所述線狀體(4)的外周面被鍍層(3)固定的、金屬被覆的多個金屬被覆磨粒(1)，
所述磨粒(1)的粒徑為5μm以上1000μm以下，
在所述線狀體(4)的外周面(41)所形成的所述鍍敷層(3)為鎳鍍層，
所述鎳鍍層的S(硫)的平均含量為0atoms/cm3以上6.0×1018atoms/cm3以下，
所述鎳鍍層的O(氧)的平均含量為0atoms/cm3以上4.0×1020atoms/cm3以下，
在所述鎳鍍層中進行SIMS(Secondary?Ion?Mass?Spectrometry)分析時的氫與Ni的二次離子平均強度比(氫平均強度/Ni平均強度)為0以上且不足2.8×10-2。
2.如權利要求1所述的電沉積線型工具，其中，所述鎳鍍層的S(硫)的平均含量為0atoms/cm3以上3.0×1018atoms/cm3以下。
3.如權利要求1或2所述的電沉積線型工具，其中，所述鎳鍍層的O(氧)的平均含量為0atoms/cm3以上2.0×1020atoms/cm3以下。
4.如權利要求1～3中任一項所述的電沉積線型工具，其中，構成所述鎳鍍層的鎳組織的平均粒徑相對于所述鎳鍍層的厚度為0.0155倍以上1.000倍以下。
5.如權利要求1～4中任一項所述的電沉積線型工具，其中，在所述鎳鍍層及所述磨粒(1)中，所述鎳鍍層的厚度/所述金屬被覆磨粒的平均粒徑的值為0.26以上0.8以下。
6.如權利要求1～5中任一項所述電沉積線型工具，其中，所述線狀體(4)是進行了黃銅鍍敷或銅鍍敷的鋼琴絲。
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