[發明專利]電子照相感光構件、制造電子照相感光構件的方法、處理盒和電子照相設備有效
| 申請號: | 201110202683.5 | 申請日: | 2007-10-24 |
| 公開(公告)號: | CN102269946A | 公開(公告)日: | 2011-12-07 |
| 發明(設計)人: | 大垣晴信;三木宣道;野口和范;小坂宣夫 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G03G5/147 | 分類號: | G03G5/147;G03G5/05;G03G21/18;G03G15/00 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;閆俊萍 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 照相 感光 構件 制造 方法 處理 設備 | ||
1.一種電子照相感光構件,其包括:
支承體;和
在所述支承體上形成的感光層,
其中所述電子照相感光構件具有表面層,所述表面層包含:
聚合物,所述聚合物的重復結構單元由各自由下式(1)表示的重復結構單元和各自由下式(a)表示的重復結構單元構成;和
含氟原子樹脂顆粒:
其中,R1表示氫原子或甲基,R2表示單鍵或二價基團,Rf1表示具有氟烷基和氟亞烷基中的至少之一的單價基團;
其中,R101表示氫原子或甲基,Y表示二價有機基團,Z表示聚合物單元,
其中在所述聚合物中,100個數%的各自由式(1)表示的重復結構單元由下式(1-6)表示:
其中,R1表示氫原子或甲基,R20表示亞烷基,Rf13表示具有4至6個碳原子的全氟烷基。
2.根據權利要求1所述的電子照相感光構件,其中式(a)中的Z為具有各自由下式(b-1)或(b-2)表示的重復結構單元的聚合物單元:
其中,R201表示烷基;
其中,R202表示烷基。
3.根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件,其中式(a)中的Y為至少具有由下式(c)表示的結構的二價有機基團:
其中,Y1和Y2各自獨立地表示亞烷基。
4.根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件,其中
重復結構單元由各自由式(1)表示的重復結構單元和各自由式(a)表示的重復結構單元構成的聚合物是通過聚合各自由下式(3)表示的化合物和各自由下式(d)表示的化合物來合成的:
其中,R1表示氫原子或甲基,R2表示單鍵或二價基團,Rf1表示具有氟烷基和氟亞烷基中的至少之一的單價基團,
其中,R101表示氫原子或甲基,Y表示二價有機基團,Z表示聚合物單元,
其中100個數%的各自由式(3)表示的化合物是由下式(3-6)表示的:
其中,R1表示氫原子或甲基,R20表示亞烷基,Rf13表示具有4至6個碳原子的全氟烷基。
5.根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件,
其中含氟原子樹脂顆粒包括四氟乙烯樹脂顆粒、三氟乙烯樹脂顆粒、四氟乙烯/六氟化丙烯樹脂顆粒、氟乙烯樹脂顆粒、1,1-二氟乙烯樹脂顆粒、二氟化乙烯/二氯化乙烯樹脂顆粒,或兩種或多種構成這些樹脂的單體的共聚物的顆粒。
6.一種制造根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件的方法,
其中所述方法包括通過使用表面層用涂布液形成所述電子照相感光構件的表面層的步驟;
其中所述表面層用涂布液包含:
聚合物,所述聚合物的重復結構單元由各自由式(1)表示的重復結構單元和各自由式(a)表示的重復結構單元構成;和
含氟原子樹脂顆粒。
7.一種處理盒,其一體化地支承根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件;和
至少一個選自由以下組成的組中的單元:充電單元、顯影單元和清潔單元,并將所述處理盒可拆卸地安裝到電子照相設備的主體上。
8.一種電子照相設備,其包括根據權利要求1或2所述的電子照相感光構件、充電單元、曝光單元、顯影單元和轉印單元。
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