[發明專利]外延材料層的特性測試裝置無效
| 申請號: | 201110191716.0 | 申請日: | 2011-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN102866143A | 公開(公告)日: | 2013-01-09 |
| 發明(設計)人: | 梁秉文 | 申請(專利權)人: | 光達光電設備科技(嘉興)有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/66 | 分類號: | G01N21/66 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 314300 浙江省嘉興市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 外延 材料 特性 測試 裝置 | ||
1.一種外延材料層的特性測試裝置,用于對襯底上的外延材料層的特性參數進行測試,其特征在于,包括:
探針單元,在測試時能夠與所述外延材料層的表面形成導電接觸,通過所述探針單元向所述外延材料層提供電信號,所述電信號能夠使得所述外延材料層發出光信號;
光信號分析單元,用于獲得所述光信號,對所述光信號進行分析,獲得所述外延材料層的特性參數。
2.如權利要求1所述的外延材料層的特性測試裝置,其特征在于,還包括:基座,所述基座上放置至少一片所述襯底;
所述外延材料層包括:至少一個N型導電層和一個P型導電層,以及位于所述兩層導電層之間的發光層,所述發光層的材質為氮化鎵、銦鎵氮、銦鋁鎵氮、鎵鋁砷、銦鎵砷、銦鎵磷、銦鎵鋁磷中的一種或者其中的組合;
測試時,所述探針單元位于所述基座上方,且所述探針單元與位于發光層上方的N型導電層或P型導電層的表面形成導電接觸,通過探針單元向所述外延材料層層提供電信號,所述N型導電層和P型導電層形成的PN結以及發光層在所述電信號的控制下發出光信號。
3.如權利要求2所述的外延材料層的特性測試裝置,其特征在于,所述探針單元包括:電信號提供單元,用于提供電信號,所述電信號為直流電信號;
導電探針對,與所述電信號提供單元電連接,所述導電探針對包括間隔設置的第一探針和第二探針,所述第一探針和第二探針具有探針頭,測試時,所述探針頭與所述N型導電層或P型導電層的表面形成導電接觸。
4.如權利要求3所述的外延材料層的特性測試裝置,其特征在于,還包括:外延沉積腔室,用于對襯底進行外延沉積工藝,所述外延沉積腔室具有真空傳輸腔室和/或裝載卸載裝置,所述裝載卸載裝置通過真空傳輸腔室與所述外延沉積腔室相連通,或者所述裝載卸載裝置直接與所述外延沉積腔室相連通;所述裝載卸載裝置內設置有襯底存放架,所述襯底存放架用于與外部交換襯底;
所述導電探針對設置于所述真空傳輸腔室或裝載卸載裝置內;
機械傳輸單元,用于將襯底在所述外延沉積腔室和所述裝載卸載裝置之間傳輸或用于將襯底在所述外延沉積腔室、真空傳輸腔室和裝載卸載裝置之間傳輸,所述機械傳輸單元用于將所述襯底傳輸至所述導電探針對下方,使得所述導電探針對與位于發光層上方的N型導電層或P型導電層的表面形成導電接觸。
5.如權利要求3所述的外延材料層的特性測試裝置,其特征在于,所述基座為可移動基座,所述外延材料層的特性測試裝置還包括:外延沉積腔室,所述外延沉積腔室具有裝載卸載裝置和/或真空傳輸腔室,所述裝載卸載裝置具有中間腔室;
所述探針對設置于所述裝載卸載裝置的中間腔室的內部或設置于所述真空傳輸腔室的內部,且所述導電探針對與所述中間腔室或真空傳輸腔室的相對位置固定;
在測試時,所述可移動基座從所述外延沉積腔室移動至所述中間腔室或所述傳輸腔室,且所述可移動基座將其上方放置的襯底及該襯底上方的外延材料層的表面移動至該外延材料層的表面與導電探針對的探針頭形成導電接觸的位置。
6.如權利要求3所述的外延材料層的特性測試裝置,其特征在于,還包括:外延沉積腔室,所述外延沉積腔室具有裝載卸載裝置和/或真空傳輸腔室,所述裝載卸載裝置具有中間腔室;
所述探針單元還包括:
探針夾持單元,設置于所述中間腔室的內部或所述真空傳輸腔室的內部,所述探針夾持單元能夠加持所述導電探針對進行移動,使得所述導電探針對移動至所述外延材料層的表面,所述基座為可移動基座,在所述基座移動過程中,所述襯底與所述基座保持相對靜止;
在測試時,所述可移動基座從所述外延沉積腔室移動至所述中間腔室或所述傳輸腔室,所述探針夾持單元將所述導電探針對的探針頭移動至所述外延材料層的表面,使得所述探針頭與所述外延材料層的表面形成導電接觸。
7.如權利要求4~6中任一權利要求所述的外延材料層的特性測試裝置,其特征在于,還包括:
數據分析單元,用于基于所述光信號分析單元獲得所述外延材料層的特性參數對所述外延沉積腔室的工藝參數進行優化調整。
8.如權利要求3所述的外延材料層的特性測試裝置,其特征在于,還包括:控制單元,用于控制所述電信號控制單元,調節所述電信號控制單元提供的電信號,控制所述探針頭的運動以及所述基座的運動。
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