[發(fā)明專利]發(fā)生器、放射影像設(shè)備及其曝光控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110186800.3
• 申請日: 2011-07-05
• 公開（公告）號: CN102866558A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉兵全;熊賢志;何建強(qiáng);張繼曄;曾敏;張贊超;倪丕詳
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳邁瑞生物醫(yī)療電子股份有限公司
• 主分類號: G03B7/00
• 分類號: G03B7/00;G03B42/02;H05G1/30
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44281
• 代理人: 郭燕

1.一種放射影像設(shè)備的曝光控制方法，其特征在于包括：

放射影像設(shè)備的發(fā)生器接收電離室輸出的感應(yīng)電壓；

在放射影像設(shè)備曝光過程中，發(fā)生器根據(jù)感應(yīng)電壓、預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光。

2.如權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，所述發(fā)生器根據(jù)閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)控制停止曝光包括：

發(fā)生器不斷將實(shí)時感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，當(dāng)感應(yīng)電壓大于或等于閾值電壓時輸出曝光截止信號；

發(fā)生器判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)，如果是則輸出第一控制信號；

當(dāng)曝光截止信號和第一控制信號同時存在時，發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。

3.如權(quán)利要求2所述方法，其特征在于，所述最小曝光控制參數(shù)為最小曝光時間，實(shí)際曝光參數(shù)為實(shí)際曝光時間，在所述發(fā)生器判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)步驟中，發(fā)生器將實(shí)際曝光時間和最小曝光時間進(jìn)行比較，當(dāng)實(shí)際曝光時間大于或等于最小曝光時間時輸出第一控制信號。

4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的方法，其特征在于，還包括：

在曝光過程中，發(fā)生器不斷判斷實(shí)際曝光時間是否達(dá)到預(yù)先設(shè)置的最大曝光時間；

若是，則發(fā)生器控制停止曝光，否則發(fā)生器控制繼續(xù)曝光。

5.一種發(fā)生器，用于放射影像設(shè)備的曝光控制，其特征在于，所述發(fā)生器包括：

控制器；

比較器，其一輸入端耦合到電離室的輸出端，用于在放射影像設(shè)備曝光過程中接收電離室輸出的感應(yīng)電壓，另一輸入端耦合到控制器，用于輸入閾值電壓，在曝光過程中不斷將實(shí)時感應(yīng)電壓和閾值電壓進(jìn)行比較，并根據(jù)比較結(jié)果輸出曝光截止信號至控制器；

所述控制器包括：

記錄單元，用于記錄預(yù)先設(shè)置的閾值電壓和最小曝光控制參數(shù)；

第一判斷單元，用于在放射影像設(shè)備曝光過程中判斷實(shí)際曝光參數(shù)是否達(dá)到最小曝光控制參數(shù)，并根據(jù)判斷結(jié)果輸出第一控制信號；

第一控制單元，用于接收曝光截止信號和第一控制信號，在曝光截止信號和第一控制信號同時有效時輸出用于控制曝光停止的第二控制信號。

6.如權(quán)利要求5所述的發(fā)生器，其特征在于，所述最小曝光控制參數(shù)為最小曝光時間，實(shí)際曝光參數(shù)為實(shí)際曝光時間，所述第一判斷單元判斷實(shí)際曝光時間是否達(dá)到最小曝光時間，當(dāng)實(shí)際曝光時間大于或等于最小曝光時間時輸出第一控制信號。

7.如權(quán)利要求5或6所述的發(fā)生器，其特征在于，所述記錄單元還用于記錄預(yù)先設(shè)置的最大曝光時間，所述控制器還包括：

第二判斷單元，其用于在曝光過程中將實(shí)際曝光時間和最大曝光時間進(jìn)行比較，當(dāng)實(shí)際曝光時間達(dá)到最大曝光時間輸出第三控制信號；

第二控制單元，用于響應(yīng)第二控制信號和第三控制信號，當(dāng)?shù)诙刂菩盘柡偷谌刂菩盘栔械娜我挥行r控制停止曝光，否則控制繼續(xù)曝光。

8.一種放射影像設(shè)備，其特征在于包括：

控制系統(tǒng)；

射線發(fā)射裝置，用于發(fā)射射線；

如權(quán)5至7中任一項所述的發(fā)生器，所述發(fā)生器分別與控制系統(tǒng)和射線發(fā)射裝置連接，所述發(fā)生器從所述控制系統(tǒng)獲取全部或部分曝光參數(shù)，根據(jù)曝光參數(shù)控制射線發(fā)射裝置曝光或停止曝光；

電離室，用于感應(yīng)曝光、積累電壓并輸出感應(yīng)電壓至發(fā)生器。

9.如權(quán)利要求8所述的放射影像設(shè)備，其特征在于，所述放射影像設(shè)備為X線放射影像設(shè)備。