[發明專利]用于從過濾器介質中去除顆粒物質的系統和方法

無效

• 申請號: 201110184964.2
• 申請日: 2011-06-21
• 公開（公告）號: CN102366693A
• 公開（公告）日: 2012-03-07
• 發明（設計）人: E·R·雅里耶;S·C·拉孔布
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: B01D46/42
• 分類號: B01D46/42;B01D46/00
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 嚴志軍;譚祐祥

1.一種顆粒過濾反向脈沖清潔系統，包括：

殼體，空氣沿朝著殼體出口的第一方向流經該殼體；

設置在所述殼體內的管板，所述管板包括管板孔口；

用于與所述管板孔口流體連通的過濾器，所述過濾器包括適于鄰近且環繞所述管板孔口定位的開口端；

能夠與所述管板連接的支承框架，所述支承框架支承所述過濾器，空氣沿所述第一方向流經所述過濾器，所述支承框架包括多個支承腿；以及

與所述支承框架相關聯的清潔系統，所述清潔系統包括與所述多個支承腿相關聯的用于沿與所述第一方向相反的第二方向引導清潔流體的清潔射流源。

2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述清潔射流源包括多個沿著所述多個支承腿的長度定位的清潔射流源。

3.如權利要求2所述的系統，其特征在于，所述多個支承腿為中空的以用于促進所述清潔流體從中流過，所述清潔射流源為用于沿所述第二方向引導清潔流體的清潔孔口。

4.如權利要求2所述的系統，其特征在于，所述多個清潔射流源隨著流體供應和所述多個清潔射流源之間的距離增加變化大小。

5.如權利要求2所述的系統，其特征在于，所述清潔流體為加壓空氣。

6.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述支承框架進一步包括：

在所述殼體的第一氣室側上設置在所述過濾器的第一封閉端之上的端板，所述端板經由托架螺栓聯接到所述多個支承腿。

7.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述多個支承腿和所述清潔射流源促進所述過濾器的基本均勻的清潔。

8.如權利要求7所述的系統，其特征在于，所述多個支承腿從所述管板基本沿著所述過濾器的長度延伸。

9.如權利要求7所述的系統，其特征在于，所述多個支承腿中的各個與所述過濾器的對應的最近內表面之間的距離不小于大約1英寸。

10.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述多個支承腿在所述管板孔口的周邊周圍彼此近似相等地沿徑向間隔開。

11.如權利要求10所述的系統，其特征在于，所述多個支承腿包括成三腳架構型的三個支承腿。

12.如權利要求1所述的系統，其特征在于，清潔流體以在大約5bar到大約8bar的范圍中的壓力供應到所述清潔系統。

13.如權利要求1所述的系統，其特征在于，清潔流體以在大約0.05秒到大約0.5秒范圍中的持續時間供應到所述清潔系統。

14.一種過濾器清潔系統，包括：

支承框架，其具有包括至少一個清潔孔口的多個中空支承腿；以及

與所述多個中空支承腿相關聯的清潔系統，所述清潔系統用于沿第二方向引導清潔流體經過所述至少一個清潔孔口。

15.如權利要求14所述的系統，其特征在于，所述多個中空支承腿彼此近似相等地沿徑向間隔開。

16.如權利要求15所述的系統，其特征在于，所述多個中空支承腿包括成三腳架構型的三個支承腿。

17.一種用于清潔過濾器的方法，所述方法包括：

提供包括多個支承腿的支承框架；

提供過濾器；

提供與所述支承框架相關聯的清潔系統，所述清潔系統包括用于沿第二方向引導清潔流體的清潔射流源；

環繞所述支承框架定位所述過濾器；

以足夠從所述過濾器移走顆粒物質的供應壓力向所述清潔系統提供清潔流體。

18.如權利要求17所述的方法，其特征在于，足夠移走顆粒物質的所述供應壓力在大約5bar和大約8bar之間。

19.如權利要求17所述的方法，其特征在于，所述定位進一步包括定向清潔射流源，以便沿所述過濾器的最近內表面的法向方向引導清潔射流。

20.如權利要求17所述的方法，其特征在于，存在多個沿所述支承框架的長度基本均勻地分布的清潔射流源。