[發明專利]在鈦種植體表面制備階段性可吸收HA/ACP復合涂層的方法無效
| 申請號: | 201110183842.1 | 申請日: | 2011-07-01 |
| 公開(公告)號: | CN102286764A | 公開(公告)日: | 2011-12-21 |
| 發明(設計)人: | 王小祥;李登虎;焦明潔;林東洋;江源勝 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | C25D9/08 | 分類號: | C25D9/08;A61L27/06;A61L27/32;A61L27/42 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 陳昱彤 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 種植 體表 制備 階段性 吸收 ha acp 復合 涂層 方法 | ||
1.一種在鈦種植體表面制備階段性可吸收HA/ACP復合涂層的方法,包括以下步驟:
(1)在第一容器中加入含有羥基磷灰石構成元素的第一電解液,并將第一容器放入恒溫加熱系統中,溫度設定為60~85℃;以鉑作為陽極、金屬鈦基體作為陰極,并將兩電極之間的直流電壓設為3.0V,兩電極之間的距離控制為2cm;將兩電極浸沒在第一電解液中,使所述金屬鈦基體表面發生陰極還原反應15~60min?,由此在所述金屬鈦基體表面先沉積一層HA涂層;
(2)在第二容器中加入含有無定形磷酸鈣構成元素和無定形磷酸鈣的穩定離子的第二電解液,并將第二容器放入恒溫加熱系統中,溫度設定為37~60℃;將經步驟(1)處理的兩電極取出再浸沒于所述第二電解液中,使所述金屬鈦基體表面繼續發生陰極還原反應15~60min,由此在所述HA涂層的表面再沉積一層ACP涂層;
(3)將表面沉積了HA/ACP復合涂層的金屬鈦基體取出清洗,去除其表面附著的電解液,在干燥箱中干燥。
2.根據權利要求1所述的在鈦種植體表面制備階段性可吸收HA/ACP復合涂層的方法,其特征在于:所述羥基磷灰石構成元素包括Ca2+?和PO43-,所述Ca2+的濃度為0.6~2.4mmol/L,PO43-?的濃度為0.36~1.44mmol/L,且Ca2+的濃度與PO43-?的濃度的比值為1.67。
3.根據權利要求1所述的在鈦種植體表面制備階段性可吸收HA/ACP復合涂層的方法,其特征在于:所述含有無定形磷酸鈣構成元素包括Ca2+?和PO43-,其中,Ca2+的濃度為0.6~2.4mmol/L,PO43-?的濃度為0.36~1.44mmol/L;無定形磷酸鈣的穩定離子為濃度為0.072~0.6mmol/L的SiO32-、cit3-、Mg2+中的任一種或任幾種的組合。
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