[發明專利]光纖耦合波導光柵傳感器及其制備方法無效
| 申請號： | 201110179862.1 | 申請日： | 2011-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN102279007A | 公開（公告）日： | 2011-12-14 |
| 發明（設計）人： | 張新平;馮勝飛;龐兆廣 | 申請（專利權）人： | 北京工業大學 |
| 主分類號： | G01D5/26 | 分類號： | G01D5/26;G02B6/34 |
| 代理公司： | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人： | 魏聿珠 |
| 地址： | 100124 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光纖 耦合 波導 光柵 傳感器 及其 制備 方法 | ||
1.光纖耦合波導光柵傳感器，其特征在于：在光纖的端面處鍍有介質波導層，在介質波導層上制有光刻膠光柵，介質波導層與光刻膠光柵形成波導光柵結構位于光纖端面上。
2.根據權利要求1所述的光纖耦合波導光柵傳感器，其特征在于：所述的介質波導層的折射率大于所述光纖的折射率，其制備材料包括ITO、ZnO、Ti2O5。
3.根據權利要求1所述的光纖耦合波導光柵傳感器，其特征在于：所述的光刻膠為正膠或負膠。
4.根據權利要求1所述的光纖耦合波導光柵傳感器的制備方法，其特征在于：
a在光纖的端面制備介質波導層；
b利用旋涂法或吹涂法制備光刻膠層；
c利用激光對光刻膠進行干涉光刻，實現光刻膠光柵的制備。
5.根據權利要求4所述的光纖耦合波導光柵傳感器的制備方法，其特征在于：所述的介質波導層的制備方法包括磁控濺射法、激光脈沖沉積法，化學氣相沉積法。
6.根據權利要求4所述的光纖耦合波導光柵傳感器的制備方法，其特征在于：所述的吹涂法是指將拋光后的光纖端面浸入光刻膠中，取出后隨即用氣流對光纖端面附著的光刻膠層進行吹涂，然后將所制備光纖放在加熱板上加熱。
7.根據權利要求4所述的光纖耦合波導光柵傳感器的制備方法，其特征在于：利用紫外激光對光刻膠進行干涉光刻中，所用的激光為波長小于400nm的激光。
8.根據權利要求4所述的光纖耦合波導光柵傳感器制備方法，其特征在于：在用紫外激光干涉光刻法制備光刻膠光柵過程中，將光纖繞其法線旋轉90度，再進行第二次曝光，即可進一步實現二維光刻膠光柵的制備。
9.根據權利要求7所述的光纖耦合波導光柵傳感器的制備方法，其特征在于：所制備的一維或二維光刻膠光柵周期為200nm～2000nm。
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