[發(fā)明專(zhuān)利]一種對(duì)不同曝光設(shè)備各層次的焦距的匹配方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110143796.2
• 申請(qǐng)日: 2011-05-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102809901A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳剛;黃瑋
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 無(wú)錫華潤(rùn)上華半導(dǎo)體有限公司;無(wú)錫華潤(rùn)上華科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 分類(lèi)號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種對(duì)不同曝光設(shè)備各層次的焦距的匹配方法，其特征在于：采用一種具有依機(jī)臺(tái)焦距轉(zhuǎn)變功能和設(shè)備匹配參數(shù)功能的R2R反饋系統(tǒng)，其中依機(jī)臺(tái)焦距轉(zhuǎn)變功能是對(duì)同工藝的同層次的焦距轉(zhuǎn)變預(yù)先設(shè)置在模板里，對(duì)于新生成的部件自動(dòng)導(dǎo)入即可；設(shè)備匹配參數(shù)功能是曝光設(shè)備焦距由于種種原因轉(zhuǎn)變時(shí)，可以直接在設(shè)備匹配參數(shù)功能里加入焦距轉(zhuǎn)變量。

2.如權(quán)利要求1所述的對(duì)不同曝光設(shè)備各層次的焦距的匹配方法，其特征在于：所述兩種功能可以同時(shí)使用。