[發明專利]一種用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液及應用

無效

• 申請號: 201110119246.7
• 申請日: 2011-05-10
• 公開（公告）號: CN102212316A
• 公開（公告）日: 2011-10-12
• 發明（設計）人: 張楷亮;張濤峰;王芳;蔡文波
• 申請（專利權）人: 天津理工大學
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;H01L45/00
• 代理公司: 天津佳盟知識產權代理有限公司 12002
• 代理人: 侯力

1.?一種用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液，其特征在于：由納米研磨料、pH調節劑、表面活性劑、消泡劑、殺菌劑、助清洗劑和溶劑組成，各組分占拋光液總量的含量分別是：納米研磨料為1.0wt%-30.0wt%、pH調節劑加入量是使酸性納米拋光液pH值為6~4、表面活性劑為0.01wt%-1.0wt%、消泡劑為20-200ppm、殺菌劑為10-50ppm、助清洗劑為0.01wt%-0.1wt%、余量為溶劑。

2.根據權利要求1所述用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液，其特征在于：所述納米研磨料為氧化鈦、氧化鈰和二氧化硅中的一種或兩種任意比例的混合物，其中氧化鈦和氧化鈰為其水分散體，二氧化硅為膠體溶液；納米研磨料的平均粒徑小于200nm。

3.根據權利要求1所述用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液，其特征在于：所述pH調節劑為由無機酸pH調節劑和有機酸pH調節劑組成的復合酸pH調節劑，無機酸pH調節劑和有機酸pH調節劑的體積比為1：1~8；無機酸pH調節劑中的無機酸為HNO₃，有機酸pH調節劑中的有機酸為醋酸、磺酸和檸檬酸中的一種或兩種任意比例的混合物。

4.根據權利要求1所述用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液，其特征在于：所述表面活性劑為硅烷聚二乙醇醚、聚二乙醇醚和十二烷基乙二醇醚中的一種或兩種任意比例的混合物。

5.根據權利要求1所述用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液，其特征在于：所述消泡劑為聚二甲基硅烷。

6.根據權利要求1所述用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液，其特征在于：所述殺菌劑為異構噻唑啉酮。

7.根據權利要求1所述用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液，其特征在于：所述助清洗劑為異丙醇。

8.根據權利要求1所述用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液，其特征在于：所述溶劑為去離子水。

9.一種如權利要求1所述用于氧化鋅化學機械平坦化的酸性納米拋光液的應用，其特征在于用于制備阻變存儲器，步驟如下：

1)在襯底Si/SiO₂上沉積底電極，在底電極上沉積SiO₂介質層，對SiO₂介質層進行開孔刻蝕，然后沉積氧化鋅阻變薄膜材料，填充覆蓋所有陣列孔；

2)通過化學機械平坦化，利用本發明提供的酸性納米拋光液將多余的氧化鋅阻變薄膜材料層進行去除并平坦化處理；

3)做出上電極，并引線制成器件。