[發明專利]鍍膜件及其制備方法

無效

• 申請號: 201110090667.1
• 申請日: 2011-04-12
• 公開（公告）號: CN102732826A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 張新倍;陳文榮;蔣煥梧;陳正士;李聰
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: C23C14/06
• 分類號: C23C14/06;C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種鍍膜件及該鍍膜件的制備方法，特別涉及一種具有疏水效果的鍍膜件及該鍍膜件的制備方法。

背景技術

浸潤性是固體表面的重要性質之一。疏水表面是指固體表面與水的接觸角大于90°的表面。近年來，疏水表面在日常生活和工業領域有著越來越重要的應用價值。目前應用較多的主要為在固體表面涂覆表面能低的有機疏水層，其中該類有機疏水層以含氟和/或硅的高分子材料居多；但有機疏水材料通常具有硬度低、不耐磨、耐熱溫度低等缺點。

發明內容

鑒于此，有必要提供一種有效解決上述問題的鍍膜件。

另外，還有必要提供一種上述鍍膜件的制備方法。

一種鍍膜件，其包括基體及形成于基體表面的疏水層，該疏水層為非晶B_xC_y層，其中1≤x≤4、0.75≤y≤3。

一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟：

提供一基體；

采用磁控濺射法，以硼靶為靶材，以乙炔為反應氣體，在基體表面形成疏水層，該疏水層為非晶B_xC_y層，其中1≤x≤4、0.75≤y≤3。

本發明所述鍍膜件在基體的表面沉積疏水層，該疏水層與水的接觸角達到103～111°，且該疏水層為碳化硼層，而碳化硼具有化學性質穩定、耐高溫、硬度高、耐磨和耐腐蝕等優點，可有效保護基體，相應地延長鍍膜件的使用壽命。

附圖說明

圖1為本發明一較佳實施例鍍膜件的剖視圖；

圖2為本發明一較佳實施例真空鍍膜機的示意圖。

主要元件符號說明

鍍膜件????????????????10

基體??????????????????11

疏水層????????????????13

真空鍍膜機????????????20

鍍膜室????????????????21

硼靶??????????????????23

軌跡??????????????????25

真空泵????????????????30

如下具體實施方式將結合上述附圖進一步說明本發明。

具體實施方式

請參閱圖1，本發明一較佳實施方式的鍍膜件10包括基體11、形成于基體11表面的疏水層13。該基體11的材質可為非金屬或金屬，該非金屬可為陶瓷或玻璃，該金屬可為不銹鋼、鋁或鋁合金等。

該疏水層13為非晶碳化硼(B_xC_y)層，其中1≤x≤4、0.75≤y≤3。該疏水層13以磁控濺射的方式形成于所述基體11上，其厚度可為250～500nm。該疏水層13具有相對較低的表面能，且其與水的接觸角可達103～111°。

本發明一較佳實施方式的鍍膜件10的制備方法，其包括以下步驟：

提供基體11，該基體11的材質可為非金屬或金屬，該非金屬可為陶瓷或玻璃，該金屬可為不銹鋼、鋁或鋁合金等。

將基體11放入無水乙醇中進行超聲波清洗，以去除基體11表面的污漬，清洗時間可為30～50min。

對經上述處理后的基體11的表面進行氬氣等離子體清洗，以進一步去除基體11表面的油污，以及改善基體11表面與后續鍍層的結合力。結合參閱圖2，提供一真空鍍膜機20，該真空鍍膜機20包括一鍍膜室21及連接于鍍膜室21的一真空泵30，真空泵30用以對鍍膜室21抽真空。該鍍膜室21內設有轉架(未圖示)和相對設置的二硼靶23。轉架帶動基體11沿圓形的軌跡25公轉，且基體11在沿軌跡25公轉時亦自轉。

該等離子體清洗的具體操作及工藝參數可為：將基體11固定于真空鍍膜機20的鍍膜室21中的轉架上，將該鍍膜室21抽真空至3.0×10^-5Torr，然后向鍍膜室21內通入流量約為500sccm(標準狀態毫升/分鐘)的氬氣(純度為99.999％)，并施加-200～-500V的偏壓于基體11，對基體11的表面進行氬氣等離子體清洗，清洗時間為3～10min。