[發明專利]消除組織培養苗污染的方法無效
| 申請號： | 201110090612.0 | 申請日： | 2011-04-12 |
| 公開（公告）號： | CN102726290A | 公開（公告）日： | 2012-10-17 |
| 發明（設計）人： | 史淑一;林麗麗;辛秀琛;張曰秋;王紅艷;姜寧;張志芬 | 申請（專利權）人： | 山東省煙臺農業學校 |
| 主分類號： | A01H4/00 | 分類號： | A01H4/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 264670 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 消除 組織培養 污染 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種消除組織培養苗污染的方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)將培養組織培養苗的培養基中加入次氯酸鈉溶液，培養基中次氯酸鈉的濃度為5-50mg/L
(2)將污染的組織培養苗接轉到含有次氯酸鈉溶液的培養基上；
(3)重復步驟(1)和(2)，經過數次接轉以后，即可消除污染；
(4)對消除污染的組織培養苗進行培養即可。
2.根據權利要求1所述的消除組織培養苗污染的方法，其特征在于，所述的每次接轉周期為5-25天。
3.根據權利要求1所述的消除組織培養苗污染的方法，其特征在于，所述的培養基的PH值為5.5-5.8，略顯酸性。
4.根據權利要求1所述的消除組織培養苗污染的方法，其特征在于，所述的步驟(4)中的組織培養苗的培養溫度22-24℃，光照條件每天10-12小時，光照強度2000lx左右。
5.根據權利要求1至4任意一項權利要求所述的消除組織培養苗污染的方法，其特征在于，所述的培養基中次氯酸鈉濃度較高，殺菌效果好，所以濃度越大，接轉周期要越短，根據培養基中次氯酸鈉的含量，安排接轉周期，一般次氯酸鈉濃度由低到高，接轉周期由長到短，根據組織培養苗的實際生長情況，調整接轉周期。
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