[發明專利]用于干式離合器的環形摩擦襯墊

有效

• 申請號: 201110084489.1
• 申請日: 2011-02-15
• 公開（公告）號: CN102162493A
• 公開（公告）日: 2011-08-24
• 發明（設計）人: L·阿達姆克扎克;I·阿利克斯;C·布瓦;J-P·布托;P·佩雷
• 申請（專利權）人: 瓦萊奧摩擦材料公司
• 主分類號: F16D13/64
• 分類號: F16D13/64;F16D13/38
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 余全平

1.用于干式離合器的環形的摩擦襯墊(1)，所述摩擦襯墊(1)具有徑向的內、外邊緣(2、3)和摩擦面(5)，第一溝槽(6)被設置在所述摩擦面(5)中，所述第一溝槽(6)從徑向內邊緣(2)朝徑向外邊緣(3)延伸，

其特征在于，所述摩擦面(5)還具有至少一個與所述第一溝槽(6)相交的第二環形溝槽(8)，所述第一、第二溝槽(6、8)在它們之間界定出觸接區(9)，且具有底面(10)和側面(11)；并且，所述第一、第二溝槽的內表面面積之和(底面(10)面積與側面(11)面積之和)與觸接區(9)的摩擦面面積之和的比值介于0.5與1之間。

2.根據權利要求1所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，所述比值介于0.65和0.9之間，且優選地為0.7數量級。

3.根據權利要求1或2所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，所述摩擦面(5)具有至少12個第一溝槽(6)。

4.根據權利要求1至3所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，所述摩擦面(5)具有至少兩個環形的第二溝槽(8)。

5.根據權利要求4所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，所述環形的第二溝槽(8)為圓形且在所述襯墊(1)的內、外邊緣(2、3)之間偏心，或者所述環形的第二溝槽(8)為橢圓且對中心。

6.根據權利要求1至5所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，所述第一溝槽(6)為直線型的，且相對于半徑傾斜。

7.根據權利要求1至6所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，所述第一、第二溝槽(6、8)的深度介于所述摩擦襯墊(1)厚度的25％與100％之間。

8.根據權利要求1至7所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，所述摩擦襯墊(1)的厚度為1.5mm至4mm數量級。

9.根據權利要求1至8所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，所述摩擦襯墊(1)粘貼在襯片(4)上。

10.根據權利要求1至9所述的摩擦襯墊(1)，其特征在于，在所述觸接區(9)的摩擦面面積之和與所述摩擦面(5)的面積之間的比值大于0.6，有利地大于0.75，優選地介于0.80和0.85之間。

11.根據權利要求1至10所述的摩擦襯墊(1)的使用，所述摩擦襯墊(1)用于機動車輛的干式離合器。

12.用于機動車的離合器，所述離合器具有：

-反作用盤，其用于直接地或間接地連接車輛發動機的曲軸，

-壓力盤；

-摩擦盤片，其位于所述反作用盤與所述壓力盤之間，且固定在轂體上，所述轂體被用于連接變速箱的輸入軸，且在所述摩擦盤片的每個表面帶有根據本發明1至10中任一項所述的摩擦襯墊(1)；和

-離合裝置，其具有：蓋體，所述蓋體連接所述反作用盤；以及接合和脫離的離合器機械裝置，其用于軸向促動所述壓力盤，以便在接合位置將所述摩擦盤片的襯墊夾緊在所述反作用盤和所述壓力盤之間，并在脫離位置釋放所述壓力盤。