[發(fā)明專利]一種低濃度采樣咀滾邊器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110079076.4
• 申請日: 2011-03-31
• 公開（公告）號: CN102218657A
• 公開（公告）日: 2011-10-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李虹杰;張培生;呂媛媛;姚智兵;李愷驊
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢市天虹儀表有限責(zé)任公司
• 主分類號: B23P21/00
• 分類號: B23P21/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種低濃度采樣咀滾邊器，其特征在于，包括底座(1)以及固定在底座(1)上的壓蓋(2)，所述的底座(1)和壓蓋(2)之間設(shè)有能在固定于底座(1)內(nèi)的伸縮裝置(9)作用下做垂直以及水平往復(fù)運(yùn)動的滑塊(3)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低濃度采樣咀滾邊器，其特征在于，所述的伸縮裝置(9)包括頂頭(901)、調(diào)整釘(902)以及設(shè)置在所述頂頭(901)和調(diào)整釘(902)之間的壓簧(903)，所述壓簧(903)一端套設(shè)置在所述頂頭(901)上，另一端與所述的調(diào)整釘(902)相接觸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低濃度采樣咀滾邊器，其特征在于，所述的底座(1)內(nèi)設(shè)有穿過該底座(1)上端面以及下端面并與外界相通的放置槽(4)，上述的伸縮裝置(9)設(shè)置在該放置槽(4)內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低濃度采樣咀滾邊器，其特征在于，所述的壓蓋(2)為截面是L型的底端開口的端蓋，所述的壓蓋(2)一端內(nèi)壁設(shè)有內(nèi)螺紋，上述底座(1)外壁設(shè)置有與內(nèi)螺紋相配合的外螺紋，上述滑塊(3)設(shè)置在所述壓蓋(2)開口的底端內(nèi)壁與所述底座(1)上端面形成的滑塊槽(5)內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低濃度采樣咀滾邊器，其特征在于，所述的壓蓋(2)側(cè)面還設(shè)置有穿過上述壓蓋(2)并與該壓蓋(2)螺紋連接并抵靠在上述底座(1)外壁的用來固定壓蓋(2)的螺釘(6)。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低濃度采樣咀滾邊器，其特征在于，所述的頂頭(901)為T型，上述壓簧(903)一端套設(shè)在頂頭(901)上并抵靠在該頂頭(901)的下端面。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低濃度采樣咀滾邊器，其特征在于，所述的滑塊(3)上端面邊緣沿周向還設(shè)置有回歸楔環(huán)(7)，所述的壓蓋(2)開口的底端內(nèi)壁還設(shè)置有與所述回歸楔環(huán)(7)相配合的回歸楔槽(8)，所述的頂頭(901)上端面為圓弧狀并與所述的滑塊(3)下端面相接觸。