[發明專利]圖像記錄裝置有效
| 申請號: | 201110062301.3 | 申請日: | 2011-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN102205740A | 公開(公告)日: | 2011-10-05 |
| 發明(設計)人: | 伊藤孝治 | 申請(專利權)人: | 兄弟工業株式會社 |
| 主分類號: | B41J11/00 | 分類號: | B41J11/00 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 孫志湧;穆德駿 |
| 地址: | 日本愛知*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 記錄 裝置 | ||
1.一種圖像記錄裝置,包括:
圖像記錄部,所述圖像記錄部被配置成將記錄液噴射到記錄介質上,以將圖像記錄在所述記錄介質上;
處理液噴射部,所述處理液噴射部被配置成將處理液噴射到所述記錄介質上,其中,所述處理液是與所述記錄液不同的液體并且具有用于降低所述記錄介質的電阻值的屬性;
傳送機構,所述傳送機構具有用于支撐所述記錄介質的支撐面,并且被配置成在所述支撐面上支撐所述記錄介質的同時,在傳送方向上傳送所述記錄介質;
吸附機構,所述吸附機構包括第一電極和第二電極,所述第一電極和第二電極被布置成在與所述支撐面平行的平面上彼此分開并且面向在所述支撐面上支撐的所述記錄介質,并且所述支撐面介于所述記錄介質與所述第一電極和所述第二電極之間,所述吸附機構被配置成使所述記錄介質靜電地吸附到所述支撐面,其中,不同的電勢分別被施加到所述第一電極和所述第二電極;以及
控制器,所述控制器被配置成控制所述處理液噴射部,使得在所述圖像記錄部將所述圖像記錄在所述記錄介質上之前,所述處理液被噴射到所述記錄介質的第一區域的至少一部分上,其中,所述第一區域是所述記錄介質的前端附近的區域,并且其中,當在與所述支撐面垂直的方向上觀看時,所述第一區域覆蓋在與所述支撐面平行的平面上的、介于所述第一電極和所述第二電極之間的區域上。
2.根據權利要求1所述的圖像記錄裝置,
其中,所述第一電極由在所述傳送方向上延伸的多個第一電極構成,并且
其中,所述第二電極由在所述傳送方向上延伸的多個第二電極構成。
3.根據權利要求2所述的圖像記錄裝置,其中,在與所述支撐面平行的平面上,在與所述傳送方向垂直的方向上,交替地逐個布置所述多個第一電極和所述多個第二電極。
4.根據權利要求1或2所述的圖像記錄裝置,其中,所述第一電極和所述第二電極被固定到所述圖像記錄裝置中的特定位置。
5.根據權利要求4所述的圖像記錄裝置,其中,所述傳送機構包括:
傳送帶,所述傳送帶具有所述支撐面并且可操作成所述支撐面在所述傳送方向上運行;以及
壓盤,所述壓盤被配置成支撐與所述傳送帶的所述支撐面相對的面,所述第一電極和所述第二電極被固定到所述壓盤。
6.根據權利要求1或2所述的圖像記錄裝置,
其中,所述傳送機構包括具有所述支撐面并且可操作成所述支撐面在所述傳送方向上運行的傳送帶;并且
其中,所述第一電極和所述第二電極被提供在所述傳送帶中。
7.根據權利要求1或2所述的圖像記錄裝置,其中,所述控制器被配置成控制所述處理液噴射部,使得所述處理液在與所述傳送方向垂直的方向上被均勻地噴射到所述記錄介質上。
8.根據權利要求1或2所述的圖像記錄裝置,
其中,所述記錄介質的在所述記錄介質的所述前端附近的區域是在所述傳送方向上從所述記錄介質的所述前端向上游側擴展的區域;并且
其中,所述記錄介質的所述前端和所述區域的所述傳送方向上的上游端之間在所述傳送方向上的距離等于或小于特定值。
9.根據權利要求1或2所述的圖像記錄裝置,
其中,所述控制器被配置成控制所述處理液噴射部,使得所述處理液被噴射到所述記錄介質的第二區域上,并且
其中,所述第二區域包括所述第一區域,并且當在與所述支撐面垂直的方向上觀看時,所述第二區域覆蓋在所述記錄介質的在所述記錄介質的所述前端附近的區域上且在與所述支撐面平行的平面上橫跨所述第一電極和所述第二電極的區域上。
10.根據權利要求9所述的圖像記錄裝置,其中,多個第二區域被布置成在與所述傳送方向垂直的方向上彼此分開,并且間隙介于所述多個第二區域的每相鄰兩個之間,其中,所述間隙被包括在所述記錄介質的下述區域中,當在與所述支撐面垂直的方向上觀看時,所述區域覆蓋在所述第一電極和所述第二電極中的一個上。
11.根據權利要求1或2所述的圖像記錄裝置,其中,所述控制器被配置成控制所述處理液噴射部,使得所述處理液僅被噴射到所述記錄介質的在所述記錄介質的所述前端附近的區域上。
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