[發明專利]二極體金屬支架的制作方法

有效

• 申請號: 201110052649.4
• 申請日: 2011-03-03
• 公開（公告）號: CN102189166A
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發明（設計）人: 陳裕升
• 申請（專利權）人: 番禺得意精密電子工業有限公司
• 主分類號: B21D22/06
• 分類號: B21D22/06;B21D37/10;B29C45/03;B29C45/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種二極體金屬支架的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供一金屬板材，于所述金屬板材上設有一第一區域，所述第一區域外圍環設有一第二區域，依次于所述第二區域外圍環設有一第三區域；

將所述金屬板材置于一沖壓模具上，所述沖壓模具包括一下模組和位于所述下模組上方的一上模組：所述下模組包括一下基體，所述下基體的上表面設有凹陷部，于所述凹陷部的外周緣凸設一擠料部，所述上模組包括一上基體，于所述上基體的下表面凸設有與所述凹陷部對應的一突出部，所述突出部的側壁與相鄰所述上基體的下表面形成一倒角，使所述第二區域緊密接觸所述擠料部；

將所述金屬板材進行沖壓成型，對所述沖壓模具施加向下的力，使所述上模組的下表面向下運動至接觸所述第二區域，所述第一區域受所述突出部擠壓而下凹進入所述凹陷部，所述第二區域受拉伸彎折而形成一圓弧狀并與所述倒角之間存在一間隙，對所述沖壓模具繼續施加向下的力，使所述上模組向下運動，所述上基體的下表面向下擠壓所述第二區域，所述擠料部同時也向上擠頂所述第二區域，所述第二區域由于受到相對的擠壓力而推動所述第二區域向所述間隙移動，填充所述間隙。

2.如權利要求1所述的二極體金屬支架的制作方法，其特征在于：所述上基體的下表面向下運動擠壓所述第二區域時，所述擠料部同時向上擠頂所述第二區域，使第二區域凹陷形成一凹槽。

3.如權利要求1所述的二極體金屬支架的制作方法，其特征在于：所述突出部向下運動時，擠壓所述第一區域形成一基座和一擋墻，所述基座與所述擋墻間形成一夾角，所述夾角為一鈍角。

4.如權利要求3所述的二極體金屬支架的制作方法，其特征在于：當所述基座和所述擋墻成型后，于所述基座和所述擋墻上鍍設至少一金屬薄膜。