[發明專利]鄰近曝光裝置、載臺溫度控制方法及面板基板的制造方法

無效

• 申請號: 201110046021.3
• 申請日: 2011-02-23
• 公開（公告）號: CN102193326A
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發明（設計）人: 峯岸學;佐藤隆悟;山家佑太;枝木一郎;渡邉啓
• 申請（專利權）人: 株式會社日立高科技
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/00;H01L21/67;H01L21/77
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司 11019
• 代理人: 壽寧;張華輝

1.一種鄰近曝光裝置，包括：

夾盤，搭載基板；

罩幕層架，保持罩幕層；

載臺，移動所述夾盤；以及

線性馬達，驅動所述載臺；其特征在于，此鄰近曝光裝置包括：

檢測機構，檢測所述載臺的溫度；以及

控制機構，控制所述線性馬達，且

所述控制機構當在運轉開始時或運轉中，在罩幕層被保持于所述罩幕層架且所述夾盤上未搭載基板的狀態下，由所述檢測機構所檢測出的所述載臺的溫度小于下限值時，通過所述線性馬達來驅動所述載臺，以進行利用所述線性馬達的熱來將所述載臺的溫度提高至比下限值高的基準值以上的第1暖機運動。

2.根據權利要求1所述的鄰近曝光裝置，其特征在于，

所述控制機構當在運轉中，在罩幕層被保持于所述罩幕層架且所述夾盤上未搭載基板的狀態下，由所述檢測機構所檢測出的所述載臺的溫度為下限值以上且小于比基準值高的上限值時，通過所述線性馬達來驅動所述載臺，以進行利用所述線性馬達的熱來將所述載臺的溫度保持為下限值以上且小于上限值的第2暖機運動，直至準備好搭載于所述夾盤上的基板為止。

3.根據權利要求1或2所述的鄰近曝光裝置，其特征在于，

所述控制機構存儲第1暖機運動以及第2暖機運動的結束時刻與第1暖機運動以及第2暖機運動中的所述載臺的移動次數，

當在運轉開始時，在罩幕層被保持于所述罩幕層架且所述夾盤上未搭載基板的狀態下，從之前的第1暖機運動或第2暖機運動的結束時刻經過規定時間時，或之前的第1暖機運動或第2暖機運動中的所述載臺的移動次數小于規定次數時，通過所述線性馬達來驅動所述載臺以進行第1暖機運動。

4.一種鄰近曝光裝置的載臺溫度控制方法，此鄰近曝光裝置包括：

夾盤，搭載基板；

罩幕層架，保持罩幕層；

載臺，移動所述夾盤；以及

線性馬達，驅動所述載臺；其特征在于，此鄰近曝光裝置的載臺溫度控制方法包括，

檢測載臺的溫度，

當在運轉開始時或運轉中，在所述罩幕層架上保持有罩幕層且所述夾盤上未搭載基板的狀態下，檢測出的所述載臺的溫度小于下限值時，通過線性馬達來驅動所述載臺，以進行利用線性馬達的熱來將所述載臺的溫度提高至比下限值高的基準值以上的第1暖機運動。

5.根據權利要求4所述的鄰近曝光裝置的載臺溫度控制方法，其特征在于，

當在運轉中，在所述罩幕層架上保持有罩幕層且所述夾盤上未搭載基板的狀態下，檢測出的所述載臺的溫度為下限值以上且小于比基準值高的上限值時，通過線性馬達來驅動所述載臺，以進行利用所述線性馬達的熱來將所述載臺的溫度保持為下限值以上且小于上限值的第2暖機運動，直至準備好搭載于所述夾盤上的基板為止。

6.根據權利要求4或5所述的鄰近曝光裝置的載臺溫度控制方法，其特征在于，

存儲第1暖機運動以及第2暖機運動的結束時刻與第1暖機運動以及第2暖機運動中的所述載臺的移動次數，

當在運轉開始時，在所述罩幕層架上保持有罩幕層且所述夾盤上未搭載基板的狀態下，從之前的第1暖機運動或第2暖機運動的結束時刻經過規定時間時，或之前的第1暖機運動或第2暖機運動中的所述載臺的移動次數小于規定次數時，通過線性馬達來驅動所述載臺以進行第1暖機運動。

7.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于，

使用根據權利要求1至3中任一項所述的鄰近曝光裝置來進行基板的曝光。

8.一種顯示用面板基板的制造方法，其特征在于，

使用根據權利要求4至6中任一項所述的鄰近曝光裝置的載臺溫度控制方法來控制載臺的溫度，以進行基板的曝光。