[發明專利]透明導電性薄膜、其制造方法以及具備其的觸摸面板

無效

• 申請號: 201110043077.3
• 申請日: 2008-01-18
• 公開（公告）號: CN102097159A
• 公開（公告）日: 2011-06-15
• 發明（設計）人: 梨木智剛;菅原英男
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00;B32B9/04;B32B15/08;G06F3/041
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 李貴亮

本申請是申請日為2008年1月18日、申請號為200810004067.7、名稱為“透明導電性薄膜、其制造方法以及具備該透明導電性薄膜的觸摸面板”的申請的分案申請。

技術領域

本發明涉及一種在可見光線區域具有透明性而且在薄膜基材上經由底涂層設置透明導電體層的透明導電性薄膜及其制造方法。進而，還涉及具備該透明導電性薄膜的觸摸面板。

本發明的透明導電性薄膜除了被用作液晶顯示器、電致發光顯示器等顯示器方式或觸摸面板等中的透明電極以外，還被用于透明物品的防靜電干擾或電磁波屏蔽等。本發明的透明導電性薄膜特別優選用于觸摸面板用途中。其中，優選用于靜電電容結合方式的觸摸面板用途。

背景技術

利用位置檢測的方法不同，觸摸面板包括光學方式、超聲波方式、靜電電容方式、電阻膜方式等。電阻膜方式的觸摸面板的透明導電性薄膜與帶透明導電體層玻璃經由間隔件對置配置，成為在透明導電性薄膜中流電流來計測帶透明導電體層玻璃中的電壓的結構。另一方面，靜電電容方式的觸摸面板的特征在于，以在基材上具有透明導電層的結構為基本結構，沒有可動部分，具有高耐久性、高透過率，所以適用于車輛用途等中。

在所述觸摸面板中，例如提出了在透明的薄膜基材的單面，從所述薄膜基材的一側，依次形成第一底涂層、第二底涂層以及透明導電體層的透明導電性薄膜(專利文獻1)。

專利文獻1：特開2002-326301號公報

發明內容

所述透明導電性薄膜有時圖案化透明導電體層。但是，明確化了圖案化透明導電體層的圖案部與非圖案化部的差異，作為顯示元件的外觀變差。特別是在靜電電容結合方式的觸摸面板中，由于透明導電體層被用于入射表面側，所以在已圖案化透明導電體層的情況下，作為顯示元件的外觀也需要為良好。

本發明的目的在于提供一種透明導電體層已被圖案化而且外觀良好的透明導電性薄膜及其制造方法。另外，其目的還在于提供一種具備該透明導電性薄膜的觸摸面板。

本發明人等為了解決所述課題而進行潛心研究，結果發現通過采用下述結構可以實現所述目的，以至完成本發明。

即，本發明涉及一種透明導電性薄膜，其是在透明的薄膜基材的單面或兩面經由至少一層底涂層具有透明導電體層的透明導電性薄膜，其特征在于，

所述透明導電體層已被圖案化，而且在不具有所述透明導電體層的非圖案部具有所述至少一層底涂層。

在所述透明導電性薄膜中，在至少具有兩層底涂層的情況下，優選至少離透明的薄膜基材最遠的底涂層與透明導電體層同樣地被圖案化。

在所述透明導電性薄膜中，在至少具有兩層底涂層的情況下，優選至少離透明的薄膜基材最遠的底涂層由無機物形成。由無機物形成的底涂層優選為SiO₂膜。

在所述透明導電性薄膜中，從透明的薄膜基材開始第一層的底涂層優選由有機物形成。

在所述透明導電性薄膜中，透明導電體層的折射率與底涂層的折射率的差優選為0.1以上。

在所述透明導電性薄膜中，

在已被圖案化的透明導電體層經由兩層底涂層設置的情況下，優選

從透明的薄膜基材開始第一層的底涂層的折射率(n)為1.5～1.7，厚度(d)100～220nm，

從透明的薄膜基材開始第二層的底涂層的折射率(n)為1.4～1.5，厚度(d)20～80nm，

透明導電體層的折射率(n)為1.9～2.1，厚度(d)為15～30nm，

所述各層的光學厚度(n×d)的總合為208～554nm。

另外，優選已被圖案化的透明導電體層和兩層底涂層的所述光學厚度的總合與非圖案部的底涂層的光學厚度的差(Δnd)為40～130nm。

作為本發明的透明導電性薄膜，以在至少單面配置所述已被圖案化的透明導電體層的方式，可以使用經由透明的粘合劑層至少疊層兩片所述透明導電性薄膜的透明導電性薄膜。

另外，作為本發明的透明導電性薄膜，以在單面配置所述已被圖案化的透明導電體層的方式，可以使用在所述透明導電性薄膜的單面經由透明的粘合劑層貼合透明基體的透明導電性薄膜。

所述透明導電性薄膜可以優選用于觸摸面板。作為觸摸面板，優選靜電電容結合方式的觸摸面板。

另外，本發明還涉及一種透明導電性薄膜的制造方法，其是所述透明導電性薄膜的制造方法，其特征在于，

具有：

配制在透明的薄膜基材的單面或兩面經由至少一層底涂層具有透明導電體層的透明導電性薄膜的工序；以及

利用酸蝕刻所述透明導電體層從而圖案化的工序。