[發明專利]罩固定工具及電感耦合等離子處理裝置

有效

• 申請號: 201110040254.2
• 申請日: 2011-02-15
• 公開（公告）號: CN102196654A
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發明（設計）人: 笠原稔大
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H05H1/46
• 分類號: H05H1/46
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李偉;舒艷君

1.一種電感耦合等離子處理裝置的罩固定工具，該罩固定工具使用于電感耦合等離子處理裝置并對罩進行固定，該電感耦合等離子處理裝置具備：處理室，其具有構成頂壁部分的窗部件，實施等離子處理；氣體供給裝置，其向上述處理室供給氣體；高頻天線，其配置于上述窗部件的上方，在上述處理室內形成感應電場；支承部件，其對上述窗部件進行支承；以及上述罩，其對上述窗部件的下表面進行覆蓋，其特征在于，

具備對上述罩進行支承的支承部和與上述支承部連接的基部，

在上述基部設有氣體導入路，該氣體導入路構成從上述氣體供給裝置向上述處理室供給氣體的氣體流路的一部分。

2.根據權利要求1所述的罩固定工具，其特征在于，

上述氣體導入路具有傳導比上述氣體流路的其他部分的小的節流部。

3.根據權利要求2所述的罩固定工具，其特征在于，

上述節流部為與上述處理室面對的氣孔。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的罩固定工具，其特征在于，

在上述氣體導入路設有等離子切斷部件，該等離子切斷部件防止從上述處理室內向上述氣體流路的上游側進入等離子。

5.根據權利要求4所述的罩固定工具，其特征在于，

上述等離子切斷部件具備：

主體；以及形成于該主體并供氣體通過的多個貫通開口。

6.根據權利要求5所述的罩固定工具，其特征在于，

上述貫通開口和上述氣孔被配設于在直線上不重合的位置。

7.根據權利要求5或6所述的罩固定工具，其特征在于，

上述氣孔的傳導比上述貫通開口的傳導小。

8.根據權利要求4至7中任一項所述的罩固定工具，其特征在于，

一個或多個上述等離子切斷部件裝拆自如地配備于上述氣體導入路。

9.根據權利要求8所述的罩固定工具，其特征在于，

上述等離子切斷部件和上述罩固定工具各自獨立且可更換。

10.根據權利要求1至9中任一項所述的罩固定工具，其特征在于，

在上述氣體導入路形成有氣體擴散空間。

11.根據權利要求1至10中任一項所述的罩固定工具，其特征在于，

上述支承部件具有與上述電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部連結的第一部件，上述基部直接或間接固定于上述第一部件。

12.根據權利要求11所述的罩固定工具，其特征在于，

上述第一部件具有機械性游隙地被支承于上述電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部。

13.根據權利要求1至12中任一項所述的罩固定工具，其特征在于，

上述支承部件具有與上述電感耦合等離子處理裝置的主體容器的上壁部連結的第一部件和與該第一部件連結的第二部件，上述基部直接或間接固定于上述第二部件。

14.根據權利要求1至13中任一項所述的罩固定工具，其特征在于，

上述支承部對構成上述罩的一部分的被支承部以在與上述支承部件和上述窗部件中的至少一方之間直接或間接夾持的方式進行支承。

15.根據權利要求14所述的罩固定工具，其特征在于，

上述支承部具有對上述被支承部的下表面進行支承的上表面和隨著遠離上述基部而距上述上表面的距離變得越小的下表面。

16.一種電感耦合等離子處理裝置，其特征在于，在一個或多個部位安裝有權利要求1至15中任一項所述的罩固定工具。

17.根據權利要求16所述的電感耦合等離子處理裝置，其特征在于，

上述罩具有切口部，該切口部用于安裝上述罩固定工具。

18.根據權利要求16或17所述的電感耦合等離子處理裝置，其特征在于，

安裝有更換用罩固定工具來替換上述罩固定工具的至少一個，該更換用罩固定工具構成為可與上述罩固定工具進行更換，具備對上述罩進行支承的支承部和與上述支承部連接的基部，并且該基部具有對上述氣體導入路和上述處理室的內部的氣體流動進行切斷的封閉結構。