[發明專利]連續擴散處理裝置

無效

• 申請號: 201110029136.1
• 申請日: 2011-01-26
• 公開（公告）號: CN102296367A
• 公開（公告）日: 2011-12-28
• 發明（設計）人: 森川清彥;笠次克尚;西村圭介;蘆田忍
• 申請（專利權）人: 光洋熱系統株式會社
• 主分類號: C30B31/18
• 分類號: C30B31/18
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 李雪春;武玉琴

技術領域

本發明涉及一種連續擴散處理裝置。

背景技術

例如，在利用結晶硅的太陽能電池單元制造過程中，需要進行擴散處理，即，使由規定元素構成的雜質附著在硅制的被處理件(晶片)的表面，并使該雜質擴散到被處理件的內部。作為進行所述擴散處理的擴散處理裝置，例如有批處理式的。該批處理式裝置具備加熱被處理件的加熱爐，該加熱爐的大小只是能夠容納裝載多個被處理件的托盤。

在將被處理件送入該加熱爐中后，向該加熱爐內提供含有雜質的氣體，并提高加熱爐內溫度，使雜質擴散到被處理件的內部。之后，在加熱爐內降溫后，將被處理件從加熱爐取出。

在使用所述批處理式加熱爐的情況下，雖然希望能夠提高處理質量，但實際上在加熱爐內進行擴散處理的時間前后，必須要有將爐內溫度提高到規定溫度的時間和將爐內溫度降低的時間，因此不能連續處理被處理件，從而難以提高生產效率。

所以，如專利文獻1所公開的連續擴散處理裝置包括：筒狀的加熱爐；輸送器，排列被處理件并在加熱爐內輸送被處理件；加熱裝置，對通過加熱爐內的被處理件進行加熱；以及供給裝置，向加熱爐內提供含有雜質的氣體。

此外，在所述裝置中，為了將加熱爐內的氣氛與外界氣體隔斷，在加熱爐的兩端部從上往下會吹出氮氣，形成氣幕。

專利文獻1：日本專利公開公報特開平9-298163號。

按照專利文獻1所記載的裝置，能夠對被處理件連續進行處理，與批處理式相比更能提高生產效率。

然而，如上文所述，雖然因氣幕使加熱爐內部的氣氛與外界氣體隔斷，但在加熱爐內部并沒有明確劃分實際進行擴散處理的處理區和其他的處理區。所以很難控制每個處理區的氣氛，與批處理式相比被處理件的處理質量有可能會變低。

發明內容

鑒于上述問題，本發明的目的在于提供一種既能提高生產效率又能提高處理質量的連續擴散處理裝置。

本發明的連續擴散處理裝置包括：輸送臺，裝載多張板狀的被處理件；筒狀的加熱爐，從送入所述輸送臺的送入部到送出所述輸送臺的送出部以直線狀延伸；輸送裝置，將所述輸送臺從所述送入部向所述加熱爐內依次送入，并將已在所述加熱爐內輸送的所述輸送臺從所述送出部依次送出；加熱裝置，對通過所述加熱爐內的所述輸送臺上裝載的所述被處理件進行加熱；多個隔壁構件，設置在所述加熱爐內，并將從所述加熱爐內的所述送入部到所述送出部之間在輸送方向上劃分成多個處理區；以及給排氣裝置，向每個所述處理區分別提供氣體，并在每個所述處理區分別排出氣體。

按照本發明，能將裝載在輸送臺上的被處理件邊輸送到加熱爐內邊進行擴散處理，與以往的批處理式相比更能提高生產率。并且，加熱爐內被隔壁構件劃分為多個處理區，向每個處理區分別提供氣體，并將每個處理區內的氣體排出，從而能夠對加熱爐內的每個處理區的氣氛進行控制，得到高質量的被處理件。

此外優選的是，所述加熱裝置包括設置在所述加熱爐外部周圍的加熱器、與所述加熱器一起覆蓋所述加熱爐的筒狀的隔熱材料，所述連續擴散處理裝置還包括控制裝置，所述控制裝置通過控制所述加熱器，對每個所述處理區分別進行爐內的溫度調整。

此時，能夠對加熱爐內各處理區的溫度進行控制，得到高質量的被處理件。

此外，優選的是，所述隔壁構件沿所述輸送方向可移動地設置在所述加熱爐內，在這種情況下，能夠改變處理區的長度。

此外，優選的是，所述輸送臺在輸送方向上的長度尺寸小于被所述隔壁構件劃分的各處理區在輸送方向上的長度尺寸。

在這種情況下，可以讓至少一臺輸送臺整體位于各處理區。由此，可以在每個處理區在同樣氛圍的條件下，對在同一臺輸送臺上裝載的多個被處理件進行擴散處理，能夠使所述多張被處理件的質量均一。

此外優選的是，所述加熱裝置包括設置在所述加熱爐外部周圍的加熱器、與所述加熱器一起覆蓋所述加熱爐的筒狀的隔熱材料，所述隔熱材料是沿所述輸送方向被切斷的分割結構。

在這種情況下，通過將隔熱材料設置為分割結構，使位于內側的加熱爐能夠裝卸。

此外優選的是，所述給排氣裝置包括：供氣裝置，向用于進行擴散處理的處理區提供用于擴散處理的氣體；排氣裝置，將該處理區的氣體排出，所述供氣裝置配置在所述加熱爐的上部，所述加熱爐具有覆蓋物，所述覆蓋物從上面和左右兩側覆蓋用于進行所述擴散處理的處理區中的所述輸送臺所通過的輸送通道，并設置有多個貫通孔。