[發(fā)明專利]過濾裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110025573.6
• 申請日: 2011-01-20
• 公開（公告）號: CN102553367A
• 公開（公告）日: 2012-07-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 拉菲爾·馬格雷;費迪南德·吉弗魯瓦
• 申請（專利權(quán)）人: 康斐爾公司
• 主分類號: B01D46/30
• 分類號: B01D46/30;B01D53/04
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 孫紀(jì)泉

1.一種使用粒狀吸附劑過濾污染的氣態(tài)流體的裝置，包括：

過濾器殼體，具有被金剛石形的穿孔壁分開的一系列扁平的相鄰隔室，所述穿孔壁在空間上布置有豎直的對角線，所述一系列扁平的相鄰隔室包括：

至少一個氣態(tài)流體進(jìn)入隔室，其具有三個阻擋外周壁和具有用于接受要被過濾的氣態(tài)流體的開口的第四壁，

至少一個氣態(tài)流體排空隔室，其具有三個阻擋外周壁和具有用于排空被過濾的氣態(tài)流體的開口的第四壁，

至少一個過濾隔室，其布置在氣態(tài)流體進(jìn)入隔室和氣態(tài)流體排空隔室之間，且所有的外周壁均被阻擋并具有用于填充粒狀吸附劑的頂部開口和用于移除所述粒狀吸附劑的底部開口，及

填充腔，被布置在上述過濾器殼體的頂部上，所述填充腔包括與所述過濾隔室的上述頂部開口和吸附劑進(jìn)口流體連接的下部以及包括真空連接件的上部，其中，所述填充腔的上部和下部被真空分配裝置分開。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述真空分配裝置包括真空分配表面，所述真空分配表面具有在其所述表面上規(guī)則分布的多個孔，并延伸經(jīng)過所述填充腔的水平橫截面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中所述粒狀真空分配表面包括濾網(wǎng)、篩子、柵格、網(wǎng)、格柵或穿孔的片。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中所述孔是圓形的且直徑在0.5-5mm范圍內(nèi)，優(yōu)選地在0.7-4.0mm范圍內(nèi)，在0.8-3.0mm范圍內(nèi)，在0.9-2.0mm范圍內(nèi)，或在1.0-1.5mm范圍內(nèi)。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中所述兩個相鄰的孔之間的最長距離是10mm，優(yōu)選地是5mm或2.5mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中所述孔是細(xì)長的，例如是矩形或圓角的矩形，且寬度在0.5-5mm范圍內(nèi)，優(yōu)選地在0.7-4.0mm范圍內(nèi)，在0.8-3.0mm范圍內(nèi)，在0.9-2.0mm范圍內(nèi)或在1.0-1.5mm范圍內(nèi)。

7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一所述的裝置，還包括粒狀吸附劑分配裝置，其布置在所述過濾隔室的頂部開口處或所述過濾隔室的上部中。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中所述粒狀吸附劑分配裝置包括粒狀吸附劑分配表面，所述粒狀吸附劑分配表面具有在其所述表面上規(guī)則分布的多個孔，并布置在延伸經(jīng)過所述過濾隔室的頂部開口的水平面中。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述粒狀吸附劑分配表面包括濾網(wǎng)、篩子、柵格、網(wǎng)、格柵或穿孔的片。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述孔是圓形的且直徑在1-10mm范圍內(nèi)，例如在2-5mm或2-3mm范圍內(nèi)。

11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中兩個相鄰的孔之間的最長距離是20mm，優(yōu)選地是15mm或10mm。

12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其中所述孔是細(xì)長的，例如是矩形或圓角的矩形，且寬度在0.5-5mm范圍內(nèi)，優(yōu)選地在0.7-4.0mm范圍內(nèi)，在0.8-3.0mm范圍內(nèi)，在0.9-2.0mm范圍內(nèi)或在1.0-1.5mm范圍內(nèi)。

13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一所述的裝置，還包括振動發(fā)生器，所述振動發(fā)生器可操作用于在所述過濾隔室和/或所述填充腔中產(chǎn)生振動。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的裝置，其中振動發(fā)生器可操作用于產(chǎn)生在10-100Hz范圍內(nèi)的振動。