[發(fā)明專利]應(yīng)用濺鍍制造天線的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110004608.8 | 申請(qǐng)日: | 2011-01-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102586725A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹承輝;王勝弘;胡士豪;胡健華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 紐西蘭商青島長(zhǎng)弓電子公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/34;C23C14/58;C23C14/18;C23C14/20 |
| 代理公司: | 北京匯智英財(cái)專利代理事務(wù)所 11301 | 代理人: | 劉祖芬 |
| 地址: | 新西蘭奧克蘭大區(qū)懷*** | 國(guó)省代碼: | 新西蘭;NZ |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 應(yīng)用 制造 天線 方法 | ||
1.一種應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,包含下列步驟:?
取一個(gè)基板,作為金屬鍍層的底層基材;
將一個(gè)具有天線圖案的光罩置于該基板上方;其中在光罩上與天線的圖案對(duì)應(yīng)的部分已鏤空;
將金屬以濺鍍的方式鍍至該光罩上方;該濺鍍的金屬將穿過該光罩鏤空部位,而在該基板上形成一個(gè)對(duì)應(yīng)該天線圖案的金屬區(qū);以及
以激光雕刻的方式將天線圖案金屬區(qū)的邊緣切齊,是以激光雕刻機(jī)依據(jù)所規(guī)劃的天線圖譜切齊天線圖案金屬區(qū)的邊緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所示的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,還包含步驟為:
對(duì)該金屬區(qū)的上方復(fù)應(yīng)用化學(xué)鍍或電鍍的方式將該金屬區(qū)增厚形成一層以承載較大的電流的增厚層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所示的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,還包含步驟為:在該天線外表形成一層包覆于該天線于該基板上的包覆層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,該基板為陶瓷基板或塑膠基板或高分子聚合材料或復(fù)合材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,濺鍍的金屬為鎳、鉻、銅或這些金屬的合金。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,濺鍍有該金屬區(qū)的基板為一個(gè)機(jī)殼,且該金屬區(qū)位于該機(jī)殼的內(nèi)側(cè)。
7.一種應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,包含下列步驟:
先取置一基板,作為金屬鍍層的底層基材;
將金屬以濺鍍的方式鍍至基材上方,形成一層金屬層,以激光雕刻的方式于濺鍍金屬層上雕刻,形成天線圖案金屬區(qū);以及
對(duì)該金屬區(qū)的上方復(fù)應(yīng)用化學(xué)鍍或電鍍的方式將該金屬區(qū)增厚形成一層以承載較大的電流的增厚層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,還包含步驟為:在該天線外表形成一層以包覆該天線于該基板上的包覆層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,該基板為陶瓷基板或塑膠基板或高分子聚合材料或復(fù)合材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,濺鍍的金屬為鎳、鉻、銅或這些金屬的合金。
11.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的應(yīng)用濺鍍制造天線的方法,其特征在于,濺鍍有該金屬區(qū)的基板為一個(gè)機(jī)殼,且該金屬區(qū)位于該機(jī)殼的內(nèi)側(cè)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于紐西蘭商青島長(zhǎng)弓電子公司,未經(jīng)紐西蘭商青島長(zhǎng)弓電子公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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