[發明專利]滑動構件及其制造方法

有效

• 申請號: 201080060987.6
• 申請日: 2010-11-11
• 公開（公告）號: CN102713767A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 橘俊光;塚本克己
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G03G15/16
• 分類號: G03G15/16;B29C67/04
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 王海川;穆德駿

技術領域

本發明涉及滑動構件，特別是涉及在電子照相方式的圖像形成裝置內使用的滑動構件。

背景技術

近年來，伴隨著以電子設備領域為代表的各領域中的技術革新，對滑動構件的要求日益多樣化。例如，在印刷領域，要求以更高的精度進行高速印刷。為了滿足這些要求，廣泛采用使用中間轉印帶的帶轉印方式的印刷。電子照相方式的圖像形成裝置中，最初在感光鼓等感光體上記錄靜電潛像。接著，通過使調色劑附著到感光體上而形成調色劑圖像。然后，將調色劑圖像轉印到中間轉印帶上。最后，將調色劑圖像轉印到紙上。

在將感光體上的調色劑圖像轉印到中間轉印帶上時以及將轉印在中間帶上的調色劑圖像轉印到紙上時，需要對調色劑圖像可靠地進行轉印。為了輔助調色劑圖像的可靠轉印，進行了各種研究。例如，在專利文獻1中，公開了通過從中間轉印帶的背面側按壓作為滑動構件的轉印墊而使中間轉印帶與紙密合的技術。這樣，通過使中間轉印帶與紙密合來進行可靠的轉印。該轉印通過對表面進行含氟樹脂涂布而使滑動性提高。

超高分子量聚乙烯具有耐磨損性優良、即使磨損也不易產生粉體的特性。專利文獻2中，公開了有效利用超高分子量聚乙烯的表面的平滑性而得到的明信片。另外，專利文獻3中，公開了使用超高分子量聚乙烯粒子的燒結體的滑動構件。該滑動構件配置在旋轉的記錄介質(例如MO)與其支撐體之間來使用。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開平11-311907號公報

專利文獻2：日本實公平4-7169號公報

專利文獻3：日本特開2004-310943號公報

發明內容

發明所要解決的問題

專利文獻1這樣的用含氟樹脂對表面進行涂布而得到的轉印墊存在如下問題：在轉印墊和中間轉印帶磨損時，涂布材料或墊的一部分脫落。專利文獻3中公開的使用超高分子量聚乙烯的燒結體的滑動構件具有低摩擦系數，滑動性優良。但是，根據本發明人研究的結果，該滑動構件不適合作為在圖像形成裝置內使用的滑動構件。這是因為，滑動構件的表面的凹凸過大，因此，不能充分地使中間轉印帶與紙密合。

用于解決問題的手段

鑒于上述情況，本發明的目的在于提供使用超高分子量聚乙烯粒子的燒結體并且具有良好的密合性和滑動性的滑動構件。

本發明提供一種滑動構件，包含作為超高分子量聚乙烯粒子的燒結體的多孔體，并具備上述多孔體的表面作為滑動面，其中，距上述多孔體的最表面的深度為20μm的上述多孔體的內部面的粒子占有率為50%以下，上述多孔體的最表面由上述超高分子量聚乙烯粒子的頂部規定，并且上述表面的表面粗糙度Ra為2.0μm以下。

發明效果

根據本發明，能夠得到具有耐磨損性并且與對象材料的接觸面具有良好的密合性和滑動性的滑動構件。將本發明的滑動構件用于圖像形成裝置的轉印墊時，能夠實現圖像的可靠轉印。

附圖說明

圖1是表示本發明的滑動構件的一個實施方式的截面圖。

圖2是表示本發明的滑動構件的另一實施方式的截面圖。

具體實施方式

以下，將超高分子量聚乙烯記為UHMWPE。

本發明的滑動構件包含作為UHMWPE粒子的燒結體的多孔體，該多孔體的表面形成與中間轉印帶等接觸構件產生滑動的滑動面。該滑動面的粒子占有率為50%以下，表面粗糙度Ra為2.0μm以下。粒子占有率是粒子在滑動構件的表面附近(具體而言為距表面的深度為20μm的多孔體的內部面)占有的面積比率，可以通過對拍攝表面而得到的圖像進行二值化處理來測定。表面粗糙度Ra由JIS?B0601規定。粒子占有率超過50%時，滑動構件與接觸構件(對象材料)接觸的面積變得過大，從而無法得到良好的滑動性。另外，滑動面的表面粗糙度Ra超過2.0μm時，雖然滑動性良好，但面的凹凸變得過大，從而無法得到對接觸構件的充分的密合性。

滑動面的粒子占有率優選為20%以上且50%以下，更優選為25%以上且45%以下。滑動面的表面粗糙度Ra優選為1.0μm以上且2.0μm以下，更優選為1.0μm以上且1.8μm以下。