[發(fā)明專利]有機(jī)電致發(fā)光器件

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201080053541.0
• 申請日: 2010-11-17
• 公開（公告）號: CN102668162A
• 公開（公告）日: 2012-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H.F.博爾納
• 申請（專利權(quán)）人: 皇家飛利浦電子股份有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 初媛媛;劉鵬

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種利用較少努力生產(chǎn)的OLED器件和一種制造這種OLED器件的方法。

背景技術(shù)

有機(jī)電致發(fā)光器件（OLED）包括處于覆蓋有導(dǎo)電但光學(xué)透明氧化物（通常為銦錫氧化物（ITO））的玻璃襯底之上的有機(jī)物質(zhì)的非常薄的層。ITO形成襯底電極（通常為陽極），并且，在有機(jī)疊層之上蒸鍍的鋁層（100?nm）形成反電極（通常為陰極）。當(dāng)在這些電極之間施加介于2V與典型地5V之間的電壓時(shí)，電流被注入有機(jī)層中，并生成光。OLED的制備需要將所有個(gè)體層結(jié)構(gòu)化為隨時(shí)間提供可靠操作，具體地，操作OLED，這兩個(gè)電極必須彼此電絕緣。因此，通常需要至少三個(gè)掩模工藝：結(jié)構(gòu)化沉積在襯底之上的襯底電極（第一掩模工藝）；將有機(jī)疊層沉積在預(yù)先結(jié)構(gòu)化的襯底電極之上（與第一掩模工藝不同的第二掩模工藝）；以及將反電極沉積在有機(jī)疊層之上，而不提供與襯底電極的電接觸（與第一和第二掩模工藝不同的第三掩模工藝）。掩模工藝應(yīng)用具有不同幾何結(jié)構(gòu)的所謂蔭罩(shadow?mask)，以便利用沉積的層來覆蓋期望區(qū)域，同時(shí)屏蔽其他區(qū)域以便避免此處的材料沉積。針對沉積（涂覆）工藝而對蔭罩的應(yīng)用是昂貴的，因?yàn)檠谀１仨氁愿邘缀尉葋碇圃臁４送猓瑢⒗贸练e的材料來涂覆掩模并且必須周期性地清潔掩模。掩模的不對準(zhǔn)可能導(dǎo)致沉積失效，從而使OLED的操作變得不可能，例如通過由于反電極掩模的不對準(zhǔn)而電短路電極。必須應(yīng)用許多附加措施，以便實(shí)現(xiàn)可靠的涂覆工藝，從而使該工藝非常昂貴，參見例如EP?1202329?A2。所有這些措施導(dǎo)致制造工藝需要極大的努力來實(shí)現(xiàn)良好的產(chǎn)品收得率（低故障率）。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種可利用較少制造努力而制造的可靠的有機(jī)電致發(fā)光器件和一種以減小的故障率制造這種器件的方法。

該目的是通過一種有機(jī)電致發(fā)光器件解決的，所述有機(jī)電致發(fā)光器件包括：襯底；處于所述襯底之上的襯底電極；具有處于所述襯底電極之上的至少一個(gè)有機(jī)發(fā)光層的電致發(fā)光疊層；至少覆蓋所述電致發(fā)光疊層的反電極；以及防短路層，其覆蓋所述反電極，從而建立反電極和防短路層的雙層；以及電絕緣層，其至少部分地處于所述防短路層之上。通過所述防短路層在所述雙層中引發(fā)拉應(yīng)力，所述拉應(yīng)力適于在沉積所述電絕緣層之后卷起所述雙層，所述電絕緣層與其中所述雙層被布置在所述電致發(fā)光疊層之上的區(qū)域中至少引入到所述雙層的切口相鄰。所述切口適于將所述反電極與所述襯底電極電斷開，其中，所述電絕緣層至少部分地覆蓋具有引入的切口的所述雙層的區(qū)域以部分地分解所述切口處的電致發(fā)光疊層，從而削弱所述雙層到與所述切口相鄰的電致發(fā)光疊層的附著，以卷起所述切口附近的雙層。

根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光器件允許使用用于制備電致發(fā)光疊層的僅一個(gè)蔭罩來制備電致發(fā)光疊層的功能疊層以及反電極和防短路層。在沒有蔭罩的情況下制備處于電致發(fā)光疊層之上的層，從而導(dǎo)致具有提高的可靠性的更便宜的制造工藝，尤其是防范襯底電極與反電極之間的短路的發(fā)生。

襯底電極可以占據(jù)襯底的較大區(qū)域。處于襯底電極之上的電致發(fā)光疊層僅覆蓋襯底電極的一部分。優(yōu)選地，處于電致發(fā)光疊層之上的反電極完全覆蓋電致發(fā)光層的區(qū)域，以便能夠?qū)φ麄€(gè)電致發(fā)光疊層施加驅(qū)動(dòng)電壓，以操作有機(jī)電致發(fā)光器件。對用于沉積反電極的蔭罩的避免導(dǎo)致反電極的沉積區(qū)域延伸至襯底電極上。因此，術(shù)語“至少覆蓋電致發(fā)光疊層”表示：襯底電極的至少部分可以被區(qū)域外的反電極覆蓋，在該區(qū)域中存在電致發(fā)光疊層。在沒有任何附加措施的情況下，這種器件將是不操作的，這是由于這兩個(gè)電極電連接。